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講演抄録/キーワード
講演名 2023-04-22 10:05
Neを用いてガラス上にスパッタ堆積したInSb膜のRTAによる結晶化
岡田竜弥チャリット ジャヤナダ コスワッタゲー琉球大)・梶原隆司佐道泰造九大)・野口 隆琉球大SDM2023-8 OME2023-8
抄録 (和) 安価な絶縁基板上への高結晶性InSb膜の形成に向けて、ArガスおよびNeガスを用いたRFスパッタリング法により製膜したInSb膜にRTAを施し結晶化を行なった。Neガスを用いて製膜した試料の方がより短時間で高いホール移動度が得られ、ホール移動度2010 cm2/Vsが得られた。 
(英) For realizing high crystallinity InSb films on low-cost insulating substrate, we investigate the crystallization using RTA of the InSb films deposited by RF sputtering using Ne or Ar gas on glass substrate. By using Ne gas, higher Hall mobility of 2010 cm2/Vs was obtained with shorter RTA duration.
キーワード (和) InSb / 急速熱処理 / スパッタ / Ne / / / /  
(英) InSb / Rapid Thermal Annealing / Sputtering / Ne / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 123, no. 8, SDM2023-8, pp. 30-31, 2023年4月.
資料番号 SDM2023-8 
発行日 2023-04-14 (SDM, OME) 
ISSN Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード SDM2023-8 OME2023-8

研究会情報
研究会 SDM OME  
開催期間 2023-04-21 - 2023-04-22 
開催地(和) 沖縄県青年会館 
開催地(英) Okinawaken Seinen Kaikan 
テーマ(和) 薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・バイオテクノロジー・材料・評価技術および一般 
テーマ(英) Thin film devices (Si, compound, organic, flexible), Biotechnology, Materials, Characterization, etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 SDM 
会議コード 2023-04-SDM-OME 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) Neを用いてガラス上にスパッタ堆積したInSb膜のRTAによる結晶化 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Crystallization by Rapid Thermal Annealing of Sputtered InSb Films Deposited on Glass Using Ne 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) InSb / InSb  
キーワード(2)(和/英) 急速熱処理 / Rapid Thermal Annealing  
キーワード(3)(和/英) スパッタ / Sputtering  
キーワード(4)(和/英) Ne / Ne  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 岡田 竜弥 / Tatsuya Okada / オカダ タツヤ
第1著者 所属(和/英) 琉球大学 (略称: 琉球大)
University of the Ryukyus (略称: Univ. Ryukyus)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) チャリット ジャヤナダ コスワッタゲー / C. J. Koswaththage / チャリット ジャヤナダ コスワッタゲー
第2著者 所属(和/英) 琉球大学 (略称: 琉球大)
University of the Ryukyus (略称: Univ. Ryukyus)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 梶原 隆司 / Takashi Kajiwar / カジワラ タカシ
第3著者 所属(和/英) 九州大学 (略称: 九大)
Kyushu University (略称: Kyushu Univ)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 佐道 泰造 / Taizoh Sadoh / サドウ タイゾウ
第4著者 所属(和/英) 九州大学 (略称: 九大)
Kyushu University (略称: Kyushu Univ)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 野口 隆 / Takashi Noguchi / ノグチ タカシ
第5著者 所属(和/英) 琉球大学 (略称: 琉球大)
University of the Ryukyus (略称: Univ. Ryukyus)
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講演者 第1著者 
発表日時 2023-04-22 10:05:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 SDM 
資料番号 SDM2023-8, OME2023-8 
巻番号(vol) vol.123 
号番号(no) no.8(SDM), no.9(OME) 
ページ範囲 pp.30-31 
ページ数
発行日 2023-04-14 (SDM, OME) 


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