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講演抄録/キーワード
講演名
2023-05-29 16:30
[ポスター講演]ナノダイヤモンド中へのイオン注入により作製したシリコン空孔中心の極低温評価
○
嶋﨑幸之介
・
鈴木和樹
・
岡城勇大
(
京大
)・
高島秀聡
(
京大/千歳科技大
)・
阿部浩之
・
大島 武
(
量研機構
)・
竹内繁樹
(
京大
)
抄録
(和)
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(英)
(Not available yet)
キーワード
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(英)
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文献情報
信学技報
資料番号
発行日
ISSN
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研究会情報
研究会
QIT
開催期間
2023-05-29 - 2023-05-30
開催地(和)
京都大学 桂キャンパス
開催地(英)
Katsura Campus, Kyoto University
テーマ(和)
量子情報, 一般
テーマ(英)
Quantum Information
講演論文情報の詳細
申込み研究会
QIT
会議コード
2023-05-QIT
本文の言語
日本語
タイトル(和)
ナノダイヤモンド中へのイオン注入により作製したシリコン空孔中心の極低温評価
サブタイトル(和)
タイトル(英)
Cryogenic Temperature Evaluation of Nanodiamonds Containing Silicon-Vacancy Centers by ion implantation
サブタイトル(英)
キーワード(1)(和/英)
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キーワード(2)(和/英)
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キーワード(3)(和/英)
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キーワード(4)(和/英)
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キーワード(5)(和/英)
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キーワード(6)(和/英)
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キーワード(7)(和/英)
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キーワード(8)(和/英)
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ)
嶋﨑 幸之介
/
Konosuke Shimazaki
/
シマザキ コウノスケ
第1著者 所属(和/英)
京都大学
(略称:
京大
)
Kyoto University
(略称:
Kyoto Univ.
)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ)
鈴木 和樹
/
Kazuki Suzuki
/
スズキ カズキ
第2著者 所属(和/英)
京都大学
(略称:
京大
)
Kyoto University
(略称:
Kyoto Univ.
)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ)
岡城 勇大
/
Yudai Okashiro
/
オカシロ ユウダイ
第3著者 所属(和/英)
京都大学
(略称:
京大
)
Kyoto University
(略称:
Kyoto Univ.
)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ)
高島 秀聡
/
Hideaki Takashima
/
タカシマ ヒデアキ
第4著者 所属(和/英)
京都大学/千歳科学技術大学
(略称:
京大/千歳科技大
)
Kyoto University/Chitose Institute of Science and Technology
(略称:
Kyoto Univ./Chitose Institute of Science and Technology
)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ)
阿部 浩之
/
Hiroshi Abe
/
アベ ヒロシ
第5著者 所属(和/英)
国立研究開発法人 量子科学技術研究開発機構
(略称:
量研機構
)
National Institutes for Quantum Science and Technology, Takasaki Institute of Advanced Quantum Science
(略称:
QST
)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ)
大島 武
/
Takeshi Ohshima
/
オオシマ タケシ
第6著者 所属(和/英)
国立研究開発法人 量子科学技術研究開発機構
(略称:
量研機構
)
National Institutes for Quantum Science and Technology, Takasaki Institute of Advanced Quantum Science
(略称:
QST
)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ)
竹内 繁樹
/
Shigeki Takeuchi
/
タケウチ シゲキ
第7著者 所属(和/英)
京都大学
(略称:
京大
)
Kyoto University
(略称:
Kyoto Univ.
)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第8著者 所属(和/英)
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第9著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第9著者 所属(和/英)
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第10著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第10著者 所属(和/英)
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第11著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第11著者 所属(和/英)
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第12著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第12著者 所属(和/英)
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第13著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第13著者 所属(和/英)
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第24著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第25著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第25著者 所属(和/英)
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第26著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第26著者 所属(和/英)
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第27著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第27著者 所属(和/英)
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第28著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第28著者 所属(和/英)
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第29著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第29著者 所属(和/英)
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第30著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第30著者 所属(和/英)
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第31著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第31著者 所属(和/英)
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第32著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第32著者 所属(和/英)
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第33著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第34著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第34著者 所属(和/英)
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第35著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第35著者 所属(和/英)
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第36著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第36著者 所属(和/英)
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講演者
第1著者
発表日時
2023-05-29 16:30:00
発表時間
90分
申込先研究会
QIT
資料番号
巻番号(vol)
vol.
号番号(no)
ページ範囲
ページ数
発行日
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