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講演抄録/キーワード
講演名 2023-06-15 14:40
CNNを用いた測長SEMの機差要因解析手法の開発
棚橋直哉高田晋太郎日立R2023-8
抄録 (和) 近年半導体プロセスが微細化し,複数の測長SEM同士の計測値差(機差)をサブナノメートル単位に収めることが求められている.機差発生時には機差低減のために要因の特定が必要だが,装置の稼働率減少による生産性低下を防ぐため,より迅速な機差要因解析手法が求められている.本研究では機差要因解析の効率化を目的に,畳み込みニューラルネットワーク(CNN)を用いて,装置状態を表す5種の電子光学パラメータを対象に,機差要因を推定する手法を開発した.疑似的に機差を発生させた240件のデータに適用した結果,正答率94.2%で模擬した機差要因を判定可能であることを確認し,実現性の目途がたった. 
(英) (Not available yet)
キーワード (和) 測長SEM / 要因解析 / 装置間機差マッチング管理 / 機械学習 / CNN / / /  
(英) / / / / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 123, no. 78, R2023-8, pp. 7-11, 2023年6月.
資料番号 R2023-8 
発行日 2023-06-08 (R) 
ISSN Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード R2023-8

研究会情報
研究会 R  
開催期間 2023-06-15 - 2023-06-15 
開催地(和) 機械振興会館 
開催地(英) Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. 
テーマ(和) 信頼性一般 
テーマ(英) Reliability General 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 R 
会議コード 2023-06-R 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) CNNを用いた測長SEMの機差要因解析手法の開発 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) CNN-based cause analysis of metrology data mismatch between multiple CD-SEMs 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 測長SEM /  
キーワード(2)(和/英) 要因解析 /  
キーワード(3)(和/英) 装置間機差マッチング管理 /  
キーワード(4)(和/英) 機械学習 /  
キーワード(5)(和/英) CNN /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 棚橋 直哉 / Naoya Tanahashi / タナハシ ナオヤ
第1著者 所属(和/英) 日立製作所 (略称: 日立)
Hitachi Ltd. (略称: Hitachi)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 高田 晋太郎 / Shintaro Takada / タカダ シンタロウ
第2著者 所属(和/英) 日立製作所 (略称: 日立)
Hitachi Ltd. (略称: Hitachi)
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講演者 第1著者 
発表日時 2023-06-15 14:40:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 R 
資料番号 R2023-8 
巻番号(vol) vol.123 
号番号(no) no.78 
ページ範囲 pp.7-11 
ページ数
発行日 2023-06-08 (R) 


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