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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2023-06-26 14:50 ［招待講演］加熱その場高分解能TEMを用いた薄膜Si固相結晶化過程の原子スケールリアルタイム観察 ～ 多結晶Siチャネル高性能化に向けて ～ ○手面 学・浅野孝典・高石理一郎・富田充裕・齋藤真澄・田中洋毅（キオクシア）  SDM2023-34 |
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| 抄録 | （和） | 加熱その場高分解能TEMを用いて，多結晶Siチャネルを模した薄膜Si内で微結晶Siと結晶化していないアモルファス領域の局所的な界面において，Si原子面が一層ずつ形成される固相結晶化の過程をリアルタイム観察した．その結果，連続的な固相エピタキシャル（SPE）成長と，多結晶Siチャネルの薄膜トランジスタにおいて移動度劣化や閾値電圧のバラつき等の要因となる粒内欠陥が形成される不連続なSPE成長を初めて区別できた．この粒内欠陥が形成されるメカニズムについて，詳細に考察した． |
| （英） | (Not available yet) | |
| キーワード | （和） | 多結晶Siチャネル / 固相結晶化 / その場観察 / TEM / 原子スケール / リアルタイム / / |
| （英） | / / / / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 123, no. 89, SDM2023-34, pp. 28-30, 2023年6月. | |
| 資料番号 | SDM2023-34 | |
| 発行日 | 2023-06-19 (SDM) | |
| ISSN | Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | SDM2023-34 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
| 開催期間 | 2023-06-26 - 2023-06-26 |
| 開催地（和） | 広島大学 ナノデバイス研究所 |
| 開催地（英） | Hiroshima Univ. (Res. Inst. of Nanodevices) |
| テーマ（和） | MOSデバイス・メモリ・パワーデバイス高性能化－材料・プロセス技術 （応用物理学会 シリコンテクノロジー分科会との合同開催） |
| テーマ（英） | Material Science and Process Technology for MOS Devices, Memories, and Power Devices |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | SDM |
| 会議コード | 2023-06-SDM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 加熱その場高分解能TEMを用いた薄膜Si固相結晶化過程の原子スケールリアルタイム観察 |
| サブタイトル（和） | 多結晶Siチャネル高性能化に向けて |
| タイトル（英） | Atomic-Scale and Real-Time Observation of Solid-Phase Crystallization in Thin Silicon Film using in situ Heating High-Resolution TEM |
| サブタイトル（英） | Toward High-Performance Poly-Si Channel |
| キーワード(1)（和/英） | 多結晶Siチャネル / |
| キーワード(2)（和/英） | 固相結晶化 / |
| キーワード(3)（和/英） | その場観察 / |
| キーワード(4)（和/英） | TEM / |
| キーワード(5)（和/英） | 原子スケール / |
| キーワード(6)（和/英） | リアルタイム / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 手面 学 / Manabu Tezura / テヅラ マナブ |
| 第1著者 所属（和/英） | キオクシア株式会社 (略称： キオクシア) Kioxia Corporation (略称： Kioxia Corp.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 浅野 孝典 / Takanori Asano / アサノ タカノリ |
| 第2著者 所属（和/英） | キオクシア株式会社 (略称： キオクシア) Kioxia Corporation (略称： Kioxia Corp.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 高石 理一郎 / Riichiro Takaishi / タカイシ リイチロウ |
| 第3著者 所属（和/英） | キオクシア株式会社 (略称： キオクシア) Kioxia Corporation (略称： Kioxia Corp.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 富田 充裕 / Mitsuhiro Tomita / トミタ ミツヒロ |
| 第4著者 所属（和/英） | キオクシア株式会社 (略称： キオクシア) Kioxia Corporation (略称： Kioxia Corp.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 齋藤 真澄 / Masumi Saitoh / サイトウ マスミ |
| 第5著者 所属（和/英） | キオクシア株式会社 (略称： キオクシア) Kioxia Corporation (略称： Kioxia Corp.) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 田中 洋毅 / Hiroki Tanaka / タナカ ヒロキ |
| 第6著者 所属（和/英） | キオクシア株式会社 (略称： キオクシア) Kioxia Corporation (略称： Kioxia Corp.) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2023-06-26 14:50:00 |
| 発表時間 | 40分 |
| 申込先研究会 | SDM |
| 資料番号 | SDM2023-34 |
| 巻番号（vol） | vol.123 |
| 号番号（no） | no.89 |
| ページ範囲 | pp.28-30 |
| ページ数 | 3 |
| 発行日 | 2023-06-19 (SDM) |
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