| 講演抄録/キーワード |
| 講演名 |
2023-10-20 16:30
2MHz以下における強磁性箔帯の磁化特性の測定 ○植田紘司・西方敦博(東工大) EMCJ2023-71 MW2023-125 EST2023-98 |
| 抄録 |
(和) |
EMC部品や磁気遮蔽で広く用いられる強磁性体について,その磁気材料の数値シミュレーションモデルを実現するために,ヒステリシスや磁気飽和特性を表現する必要がある.
そこで,実際に用いられている強磁性材料の磁気特性を把握するために,強磁性箔帯材料についての磁化特性(印加磁場の振幅,周波数を変化させた時,直流バイアス磁場を重畳した時のM-H特性)の測定を行った.
また,大振幅時の歪波形のもとでの基本周波数における強磁性材料の複素比透磁率を定義し求めた. |
| (英) |
For ferromagnetic materials that are widely used in EMC parts and magnetic shielding, it is necessary to express the hysteresis and magnetic saturation characteristics in order to realize a numerical simulation model of the magnetic material.
Therefore, in order to understand the magnetic properties of ferromagnetic materials actually used, the magnetization properties (M-H characteristics when changing the amplitude and frequency of the applied magnetic field and when superimposing a DC bias magnetic field) of ferromagnetic shielding materials were measured.
The complex specific permeability of ferromagnetic materials at the fundamental frequency under the strain waveform at large amplitude was defined and obtained. |
| キーワード |
(和) |
磁気飽和 / ヒステリシス / 複素比透磁率 / 直流バイアス / / / / |
| (英) |
Magnetic saturation / Hysteresis / Complex relative permeability / DC bias / / / / |
| 文献情報 |
信学技報, vol. 123, no. 215, EMCJ2023-71, pp. 188-193, 2023年10月. |
| 資料番号 |
EMCJ2023-71 |
| 発行日 |
2023-10-12 (EMCJ, MW, EST) |
| ISSN |
Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
| PDFダウンロード |
EMCJ2023-71 MW2023-125 EST2023-98 |
| 研究会情報 |
| 研究会 |
MW EMCJ EST IEE-EMC |
| 開催期間 |
2023-10-19 - 2023-10-20 |
| 開催地(和) |
山形大学(米沢市) |
| 開催地(英) |
Yamagata University |
| テーマ(和) |
マイクロ波/電磁界シミュレーション/EMC一般 |
| テーマ(英) |
Microwave, EM simulation, EMC, etc. |
| 講演論文情報の詳細 |
| 申込み研究会 |
EMCJ |
| 会議コード |
2023-10-MW-EMCJ-EST-EMC |
| 本文の言語 |
日本語 |
| タイトル(和) |
2MHz以下における強磁性箔帯の磁化特性の測定 |
| サブタイトル(和) |
|
| タイトル(英) |
Measurement of magnetization properties of ferromagnetic foil tape at frequencies below 2 MHz |
| サブタイトル(英) |
|
| キーワード(1)(和/英) |
磁気飽和 / Magnetic saturation |
| キーワード(2)(和/英) |
ヒステリシス / Hysteresis |
| キーワード(3)(和/英) |
複素比透磁率 / Complex relative permeability |
| キーワード(4)(和/英) |
直流バイアス / DC bias |
| キーワード(5)(和/英) |
/ |
| キーワード(6)(和/英) |
/ |
| キーワード(7)(和/英) |
/ |
| キーワード(8)(和/英) |
/ |
| 第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
植田 紘司 / Koji Ueda / ウエダ コウジ |
| 第1著者 所属(和/英) |
東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称: Tokyo Tech) |
| 第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
西方 敦博 / Atsuhiro Nishikata / ニシカタ アツヒロ |
| 第2著者 所属(和/英) |
東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Institute of Technology (略称: Tokyo Tech) |
| 第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
| 第3著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
| 第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
| 第4著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
| 第5著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
| 第5著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
| 第6著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
| 第6著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
| 第7著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
| 第7著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
| 第8著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
| 第8著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
| 第9著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
| 第9著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
| 第10著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
| 第10著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
| 第11著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
| 第11著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
| 第12著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
| 第12著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
| 第13著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
| 第13著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
| 第14著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
| 第14著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
| 第15著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
| 第15著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
| 第16著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
| 第16著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
| 第17著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
| 第17著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
| 第18著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
| 第18著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
| 第19著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
| 第19著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
| 第20著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
| 第20著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
| 第21著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
| 第21著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
| 第22著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
| 第22著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
| 第23著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
| 第23著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
| 第24著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
| 第24著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
| 第25著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
| 第25著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
| 第26著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
| 第26著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
| 第27著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
| 第27著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
| 第28著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
| 第28著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
| 第29著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
| 第29著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
| 第30著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
| 第30著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
| 第31著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
| 第31著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
| 第32著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
| 第32著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
| 第33著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
| 第33著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
| 第34著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
| 第34著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
| 第35著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
| 第35著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
| 第36著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
| 第36著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
| 講演者 |
第1著者 |
| 発表日時 |
2023-10-20 16:30:00 |
| 発表時間 |
20分 |
| 申込先研究会 |
EMCJ |
| 資料番号 |
EMCJ2023-71, MW2023-125, EST2023-98 |
| 巻番号(vol) |
vol.123 |
| 号番号(no) |
no.215(EMCJ), no.216(MW), no.217(EST) |
| ページ範囲 |
pp.188-193 |
| ページ数 |
6 |
| 発行日 |
2023-10-12 (EMCJ, MW, EST) |
|