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講演抄録/キーワード
講演名 2023-11-09 10:30
[招待講演]SISPAD 2023 レビュー
田中 一阪大SDM2023-62
抄録 (和) デバイス・プロセスシミュレーションを中心とした,半導体分野におけるモデリング・シミュレーション技術を扱う国際会議である2023 International Conference on Simulation of Semiconductor Processes and Devices (SISPAD 2023)が,2023年9月26日から9月29日にかけて兵庫県神戸市で開催された.本報告では,当会議の概要を,統計データの動向を紹介しつつ振り返るとともに,発表された論文の内容についてレビューする. 
(英) The 2023 International Conference on Simulation of Semiconductor Processes and Devices (SISPAD 2023), which focuses on the device and process simulations and other modeling and simulation technologies related to semiconductors, was held on September 26--29, 2023 in Kobe, Japan. This report will review the papers presented at this conference as well as discuss the trend of the statistical data of the conference.
キーワード (和) SISPAD / レビュー / 半導体 / デバイス / プロセス / モデリング / シミュレーション /  
(英) SISPAD / review / semiconductor / device / process / modeling / simulation /  
文献情報 信学技報, vol. 123, no. 250, SDM2023-62, pp. 1-6, 2023年11月.
資料番号 SDM2023-62 
発行日 2023-11-02 (SDM) 
ISSN Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード SDM2023-62

研究会情報
研究会 SDM  
開催期間 2023-11-09 - 2023-11-10 
開催地(和) 機械振興会館 5階 5S-2 会議室 
開催地(英)  
テーマ(和) プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般 
テーマ(英) Process, Device, Circuit simulation, etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 SDM 
会議コード 2023-11-SDM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) SISPAD 2023 レビュー 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) SISPAD 2023 Review 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) SISPAD / SISPAD  
キーワード(2)(和/英) レビュー / review  
キーワード(3)(和/英) 半導体 / semiconductor  
キーワード(4)(和/英) デバイス / device  
キーワード(5)(和/英) プロセス / process  
キーワード(6)(和/英) モデリング / modeling  
キーワード(7)(和/英) シミュレーション / simulation  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 田中 一 / Hajime Tanaka / タナカ ハジメ
第1著者 所属(和/英) 大阪大学 (略称: 阪大)
Osaka University (略称: Osaka Univ.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2023-11-09 10:30:00 
発表時間 50分 
申込先研究会 SDM 
資料番号 SDM2023-62 
巻番号(vol) vol.123 
号番号(no) no.250 
ページ範囲 pp.1-6 
ページ数
発行日 2023-11-02 (SDM) 


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