| 電子情報通信学会 研究会発表申込システム 講演論文 詳細 |
技報閲覧サービス [ログイン] 技報アーカイブ |
| トップに戻る | 前のページに戻る | [Japanese] / [English] |
| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2023-12-08 11:15 キャピラリ・ニードルエミッタ構造を有するエレクトロスプレーイオン源の性能向上に向けた作製プロセスの最適化 ○郭 樹俊（横浜国大）・長尾昌善・村上勝久・村田博雅（産総研）・鷹尾祥典（横浜国大）  ED2023-51 |
|
| 抄録 | （和） | 著者らは超小型衛星に搭載可能なエレクトロスプレーイオン源を研究している．これはイオン液体を推進剤とし，イオン放出によって推力を得る．我々がこれまでに作製したデバイスでは，イオン放出後に表面にイオン液体が漏出するという課題がある．本研究では漏出防止に向けて，エミッタ電極内にニードルを設置した．設計の段階でエミッタ間のピッチが10 μmとなった．これは既存の作製デバイスの2倍であり，推力密度の低下を招く．ピッチを縮めるため，フォトレジストを使うプロセスと絶縁膜の成膜条件を変更したプロセスを考案し，デバイスの作製を行った．作製の結果，後者の方法でエミッタ間のピッチを縮めることが可能であると判明した． |
| （英） | We study electrospray ion sources that can be mounted on nano-satellites, which use ionic liquid as a propellant and gain thrust by ion emission. In our previous devices, ionic liquid leaked onto the surface after ion emission. To prevent leakage, a needle was placed in the emitter electrode in this study. The pitch between emitters was 10 μm at the design stage. This pitch is twice that of previous devices, resulting in a reduction in thrust density. To reduce the pitch, a process using photoresist or modified deposition conditions of insulating film was employed to fabricate the device. The latter was expected to reduce the pitch between emitters. | |
| キーワード | （和） | 電気推進 / エレクトロスプレーイオン源 / キャピラリ・ニードルエミッタ構造 / イオン液体 / / / / |
| （英） | Electric Propulsion / Electrospray Ion Source / Capillary-Needle-Emitter Structure / Ionic Liquid / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 123, no. 297, ED2023-51, pp. 49-52, 2023年12月. | |
| 資料番号 | ED2023-51 | |
| 発行日 | 2023-11-30 (ED) | |
| ISSN | Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | ED2023-51 |
|
| 研究会情報 | |
| 研究会 | ED |
| 開催期間 | 2023-12-07 - 2023-12-08 |
| 開催地（和） | ウインクあいち（愛知県産業労働センター） |
| 開催地（英） | WINC AICHI |
| テーマ（和） | 電子・イオンビーム応用 |
| テーマ（英） | Applications of electron and ion beam |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | ED |
| 会議コード | 2023-12-ED |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | キャピラリ・ニードルエミッタ構造を有するエレクトロスプレーイオン源の性能向上に向けた作製プロセスの最適化 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Fabrication Process Optimization for Improving the Performance of Ultra-High Density Electrospray Ion Sources with a Capillary-Needle-Emitter Structure |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 電気推進 / Electric Propulsion |
| キーワード(2)（和/英） | エレクトロスプレーイオン源 / Electrospray Ion Source |
| キーワード(3)（和/英） | キャピラリ・ニードルエミッタ構造 / Capillary-Needle-Emitter Structure |
| キーワード(4)（和/英） | イオン液体 / Ionic Liquid |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 郭 樹俊 / Shujun Guo / カク ジュシュン |
| 第1著者 所属（和/英） | 横浜国立大学 (略称： 横浜国大) Yokohama National University (略称： YNU) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 長尾 昌善 / Masayoshi Nagao / ナガオ マサヨシ |
| 第2著者 所属（和/英） | 国立研究開発法人 産業技術総合研究所 (略称： 産総研) National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称： AIST) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 村上 勝久 / Katsuhisa Murakami / ムラカミ カツヒサ |
| 第3著者 所属（和/英） | 国立研究開発法人 産業技術総合研究所 (略称： 産総研) National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称： AIST) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 村田 博雅 / Hiromasa Murata / ムラタ ヒロマサ |
| 第4著者 所属（和/英） | 国立研究開発法人 産業技術総合研究所 (略称： 産総研) National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称： AIST) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 鷹尾 祥典 / Yoshinori Takao / タカオ ヨシノリ |
| 第5著者 所属（和/英） | 横浜国立大学 (略称： 横浜国大) Yokohama National University (略称： YNU) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2023-12-08 11:15:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | ED |
| 資料番号 | ED2023-51 |
| 巻番号（vol） | vol.123 |
| 号番号（no） | no.297 |
| ページ範囲 | pp.49-52 |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2023-11-30 (ED) |
[研究会発表申込システムのトップページに戻る]