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講演抄録/キーワード
講演名 2024-02-29 14:00
走査型プローブリソグラフィにより作製したクローンに耐性のあるナノ人工物メトリックシステム
岩橋 虎吉田直樹吉岡克成横浜国大)・松本 勉産総研VLD2023-113 HWS2023-73 ICD2023-102
抄録 (和) (まだ登録されていません) 
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文献情報 信学技報, vol. 123, no. 391, HWS2023-73, pp. 83-88, 2024年2月.
資料番号 HWS2023-73 
発行日 2024-02-21 (VLD, HWS, ICD) 
ISSN Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード VLD2023-113 HWS2023-73 ICD2023-102

研究会情報
研究会 VLD HWS ICD  
開催期間 2024-02-28 - 2024-03-02 
開催地(和) 沖縄県男女共同参画センター【てぃるる】会議室1・2・3 
開催地(英)  
テーマ(和) システムオンシリコンを支える設計技術, ハードウェアセキュリティ, 一般 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 HWS 
会議コード 2024-02-VLD-HWS-ICD 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 走査型プローブリソグラフィにより作製したクローンに耐性のあるナノ人工物メトリックシステム 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Nano Artifact Metric Systems Resistant Against Clones Produced by Scanning Probe Lithography 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 岩橋 虎 / Akira Iwahashi / イワハシ アキラ
第1著者 所属(和/英) 横浜国立大学 (略称: 横浜国大)
Yokohama National University (略称: YNU)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 吉田 直樹 / Naoki Yoshida / ヨシダ ナオキ
第2著者 所属(和/英) 横浜国立大学 (略称: 横浜国大)
Yokohama National University (略称: YNU)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 吉岡 克成 / Katsunari Yoshioka / ヨシオカ カツナリ
第3著者 所属(和/英) 横浜国立大学 (略称: 横浜国大)
Yokohama National University (略称: YNU)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 松本 勉 / Tsutomu Matsumoto / マツモト ツトム
第4著者 所属(和/英) 国立研究開発法人 産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technolog (略称: AIST)
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講演者 第1著者 
発表日時 2024-02-29 14:00:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 HWS 
資料番号 VLD2023-113, HWS2023-73, ICD2023-102 
巻番号(vol) vol.123 
号番号(no) no.390(VLD), no.391(HWS), no.392(ICD) 
ページ範囲 pp.83-88 
ページ数
発行日 2024-02-21 (VLD, HWS, ICD) 


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