| 電子情報通信学会 研究会発表申込システム 講演論文 詳細 |
技報閲覧サービス [ログイン] 技報アーカイブ |
| トップに戻る | 前のページに戻る | [Japanese] / [English] |
| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2024-03-01 14:25 ガウス過程回帰に基づく薄膜強誘電体メムキャパシタのモデル化と評価 ○浦田涼雅（京都工繊大）・篠田太陽・木村 睦（龍谷大）・新谷道広（京都工繊大）  VLD2023-128 HWS2023-88 ICD2023-117 |
|
| 抄録 | （和） | 薄膜材料を用いた強誘電体メムキャパシタは，積和演算処理を低消費電力で実現可能な回路素子として注目を集めている．一方で，メムキャパシタには未解明な動作原理が多いことから，回路設計に必須となるSPICEモデルが存在しない課題がある．本研究では，実測値を用いたガウス過程回帰に基づくメムキャパシタモデリング手法を提案する．ガウス過程回帰を用いることで，動作原理が不明であったとしても実測値さえあれば，メムキャパシタの印加電圧履歴に応じて変化するヒステリシスを有する非線形容量特性をモデリング可能とし，さらにはSPICEモデルの標準言語であるVerilog-A言語記述することで市販SPICEでのシミュレーションを可能とする．実際に作成した強誘電体メムキャパシタを用いた評価実験においては，生成したモデルが実測をよく模擬できていることを示すとともに，ニューラルネットワーク回路の設計に用い，生成したモデルの回路設計適用の有用性を示す． |
| （英） | Ferroelectric memcapacitors using thin-film materials are attracting attention as a circuit element that can realize sum-of-products processing with ultra low power. On the other hand, memcapacitors have many unresolved operating principles, and SPICE models, which are indispensable for circuit design, do not exist. This study proposes a memcapacitor modeling method based on Gaussian process regression using measurement results. Using Gaussian process regression, nonlinear capacitance characteristics with hysteresis that change according to the applied voltage history of memcapacitors can be modeled as long as there are measured values, even if the operating principle is unknown, as long as the measured values are available. Furthermore, the Verilog-A language, which is the standard language for SPICE modeling, enables simulation with commercial SPICE simulator. In an evaluation experiment using measurement results of a ferroelectric memcapacitor, we show that the generated model can simulate the actual measurement well, and it is also used to design neural network circuits to demonstrate the usefulness of the generated model for circuit design. | |
| キーワード | （和） | コンパクトモデリング / ガウス過程回帰 / メムキャパシタ / / / / / |
| （英） | Compact modeling / Gaussian process regression / Memcapacitor / / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 123, no. 390, VLD2023-128, pp. 151-156, 2024年2月. | |
| 資料番号 | VLD2023-128 | |
| 発行日 | 2024-02-21 (VLD, HWS, ICD) | |
| ISSN | Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | VLD2023-128 HWS2023-88 ICD2023-117 |
|
| 研究会情報 | |
| 研究会 | VLD HWS ICD |
| 開催期間 | 2024-02-28 - 2024-03-02 |
| 開催地（和） | 沖縄県男女共同参画センター【てぃるる】会議室１・２・３ |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | システムオンシリコンを支える設計技術, ハードウェアセキュリティ, 一般 |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | VLD |
| 会議コード | 2024-02-VLD-HWS-ICD |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | ガウス過程回帰に基づく薄膜強誘電体メムキャパシタのモデル化と評価 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Modeling of Thin-Film Ferroelectric Memcapacitors Based on Gaussian Process Regression and its evaluation |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | コンパクトモデリング / Compact modeling |
| キーワード(2)（和/英） | ガウス過程回帰 / Gaussian process regression |
| キーワード(3)（和/英） | メムキャパシタ / Memcapacitor |
| キーワード(4)（和/英） | / |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 浦田 涼雅 / Ryoga Urata / ウラタ リョウガ |
| 第1著者 所属（和/英） | 京都工芸繊維大学 (略称： 京都工繊大) Kyoto Institute of Technology (略称： KIT) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 篠田 太陽 / Taiyo Shinoda / シノダ タイヨウ |
| 第2著者 所属（和/英） | 龍谷大学 (略称： 龍谷大) Ryukoku University (略称： Ryukoku Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 木村 睦 / Mutsumi Kimura / キムラ ムツミ |
| 第3著者 所属（和/英） | 龍谷大学 (略称： 龍谷大) Ryukoku University (略称： Ryukoku Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 新谷 道広 / Michihiro Shintani / シンタニ ミチヒロ |
| 第4著者 所属（和/英） | 京都工芸繊維大学 (略称： 京都工繊大) Kyoto Institute of Technology (略称： KIT) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2024-03-01 14:25:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | VLD |
| 資料番号 | VLD2023-128, HWS2023-88, ICD2023-117 |
| 巻番号（vol） | vol.123 |
| 号番号（no） | no.390(VLD), no.391(HWS), no.392(ICD) |
| ページ範囲 | pp.151-156 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2024-02-21 (VLD, HWS, ICD) |
[研究会発表申込システムのトップページに戻る]