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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2024-08-23 14:50 ミストCVD法による酸化亜鉛薄膜の成膜と熱処理の特性変化 ○大橋亮介・岡田達樹・ヘテット ス ワイ・安岡龍哉・川原村敏幸（高知工科大）  ED2024-16 |
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| 抄録 | （和） | (まだ登録されていません) |
| （英） | (Not available yet) | |
| キーワード | （和） | / / / / / / / |
| （英） | / / / / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 124, no. 158, ED2024-16, pp. 12-14, 2024年8月. | |
| 資料番号 | ED2024-16 | |
| 発行日 | 2024-08-16 (ED) | |
| ISSN | Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | ED2024-16 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | ED |
| 開催期間 | 2024-08-23 - 2024-08-23 |
| 開催地（和） | 高知工科大学（永国寺キャンパス） |
| 開催地（英） | Kochi University of Technology (Eikokuji Campus) |
| テーマ（和） | 薄膜材料デバイス，一般 |
| テーマ（英） | Thin film materials and devices, general |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | ED |
| 会議コード | 2024-08-ED |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | ミストCVD法による酸化亜鉛薄膜の成膜と熱処理の特性変化 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Fabrication of ZnO Thin Films by Mist CVD and the characteristic variation by heat treatment. |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | / |
| キーワード(2)（和/英） | / |
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| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 大橋 亮介 / Ryosuke Ohashi / オオハシ リョウスケ |
| 第1著者 所属（和/英） | 高知工科大学 (略称： 高知工科大) Kochi University of Technology (略称： KUT) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 岡田 達樹 / Tatsuki Okada / オカダ タツキ |
| 第2著者 所属（和/英） | 高知工科大学 (略称： 高知工科大) Kochi University of Technology (略称： KUT) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | ヘテット ス ワイ / Htet Su Wai / ヘテット ス ワイ |
| 第3著者 所属（和/英） | 高知工科大学 (略称： 高知工科大) Kochi University of Technology (略称： KUT) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 安岡 龍哉 / Yasuoka Tatsuya / ヤスオカ タツヤ |
| 第4著者 所属（和/英） | 高知工科大学 (略称： 高知工科大) Kochi University of Technology (略称： KUT) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 川原村 敏幸 / Toshiyuki Kawaharamura / カワハラムラ トシユキ |
| 第5著者 所属（和/英） | 高知工科大学 (略称： 高知工科大) Kochi University of Technology (略称： KUT) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2024-08-23 14:50:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | ED |
| 資料番号 | ED2024-16 |
| 巻番号（vol） | vol.124 |
| 号番号（no） | no.158 |
| ページ範囲 | pp.12-14 |
| ページ数 | 3 |
| 発行日 | 2024-08-16 (ED) |
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