| 電子情報通信学会 研究会発表申込システム 講演論文 詳細 |
技報閲覧サービス [ログイン] 技報アーカイブ |
| トップに戻る | 前のページに戻る | [Japanese] / [English] |
| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2024-10-24 11:20 高速・高SNR吸光イメージングシステムによる真空チャンバ内のガス濃度分布計測および解析 ○酒井勇志・稲田貴郁・間脇武蔵・諏訪智之・森本達郎・白井泰雪・須川成利・黒田理人（東北大）  SDM2024-45 |
|
| 抄録 | （和） | 我々は半導体製造用チャンバ内の流体濃度分布リアルタイム計測に向け, SN比70 dB・フレームレート1000 fpsでの計測が可能な吸光イメージングシステムを開発している. それを用いた計測により, チャンバ内のNO2ガスの分圧と吸光度について, 分圧約0.03 Paから約66 Paにかけて広い範囲で直線性の高い良好な検量線を得た. さらに, ノズルからのNO2ガス吹き出しを計測し, 従来のカメラのSN比レベルでは不可能なNO2分圧1.4Pa以下の領域におけるNO2濃度分布の可視化に成功した. また, ノズルから吹き出すNO2ガスの濃度分布データを1msごとに取得・解析し, ノズル吹き出し口と離れた地点における濃度変化の時間差と分布幅について議論した. |
| （英） | We are developing a 70-dB SNR 1,000 frame-per-second absorption imaging system for real-time measurement of fluid concentration distribution in a chamber for semiconductor manufacturing. In the steady gas flow condition, the spectrometry of NO2 gas shows a good linear relationship between the absorbance and the partial pressure above approximately 0.03 Pa to 66 Pa with the system. In the dynamic gas flow measurement, the system enables the visualization of beginning of jet out of NO2 gas from a nozzle in the range of NO2 partial pressure below 1.4 Pa. Furthermore, the concentration distribution data of jet out of NO2 gas are acquired and analyzed every 1 ms, and the time difference of the concentration change and the width of the distribution at a distance from the nozzle outlet are discussed. | |
| キーワード | （和） | 吸光イメージング / CMOSイメージセンサ / グローバルシャッタ / 信号対雑音比 / ガス濃度モニタリング / 半導体製造技術 / / |
| （英） | Absorption imaging / CMOS image sensor / Global shutter / Signal-noise ratio(SNR) / Gas concentration monitoring / Semiconductor manufacturing / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 124, no. 222, SDM2024-45, pp. 10-13, 2024年10月. | |
| 資料番号 | SDM2024-45 | |
| 発行日 | 2024-10-17 (SDM) | |
| ISSN | Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | SDM2024-45 |
|
| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
| 開催期間 | 2024-10-24 - 2024-10-24 |
| 開催地（和） | 東北大学未来情報産業研究館５Ｆ |
| 開催地（英） | NICHe, Tohoku Univ. |
| テーマ（和） | プロセス科学と新プロセス技術 |
| テーマ（英） | Process Science and New Process Technology |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | SDM |
| 会議コード | 2024-10-SDM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 高速・高SNR吸光イメージングシステムによる真空チャンバ内のガス濃度分布計測および解析 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Measurement and analysis of gas concentration distribution in vacuum chamber using high-speed and high-SNR absorption imaging system |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 吸光イメージング / Absorption imaging |
| キーワード(2)（和/英） | CMOSイメージセンサ / CMOS image sensor |
| キーワード(3)（和/英） | グローバルシャッタ / Global shutter |
| キーワード(4)（和/英） | 信号対雑音比 / Signal-noise ratio(SNR) |
| キーワード(5)（和/英） | ガス濃度モニタリング / Gas concentration monitoring |
| キーワード(6)（和/英） | 半導体製造技術 / Semiconductor manufacturing |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 酒井 勇志 / Yushi Sakai / サカイ ユウシ |
| 第1著者 所属（和/英） | 東北大学 (略称： 東北大) Tohoku University (略称： Tohoku Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 稲田 貴郁 / Takafumi Inada / イナダ タカフミ |
| 第2著者 所属（和/英） | 東北大学 (略称： 東北大) Tohoku University (略称： Tohoku Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 間脇 武蔵 / Takezo Mawaki / マワキ タケゾウ |
| 第3著者 所属（和/英） | 東北大学 (略称： 東北大) Tohoku University (略称： Tohoku Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 諏訪 智之 / Tomoyuki Suwa / スワ トモユキ |
| 第4著者 所属（和/英） | 東北大学 (略称： 東北大) Tohoku University (略称： Tohoku Univ.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 森本 達郎 / Tatsuo Morimoto / モリモト タツオ |
| 第5著者 所属（和/英） | 東北大学 (略称： 東北大) Tohoku University (略称： Tohoku Univ.) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 白井 泰雪 / Yasuyuki Shirai / シライ ヤスユキ |
| 第6著者 所属（和/英） | 東北大学 (略称： 東北大) Tohoku University (略称： Tohoku Univ.) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） | 須川 成利 / Shigetoshi Sugawa / スガワ シゲトシ |
| 第7著者 所属（和/英） | 東北大学 (略称： 東北大) Tohoku University (略称： Tohoku Univ.) |
| 第8著者 氏名（和/英/ヨミ） | 黒田 理人 / Rihito Kuroda / クロダ リヒト |
| 第8著者 所属（和/英） | 東北大学 (略称： 東北大) Tohoku University (略称： Tohoku Univ.) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2024-10-24 11:20:00 |
| 発表時間 | 20分 |
| 申込先研究会 | SDM |
| 資料番号 | SDM2024-45 |
| 巻番号（vol） | vol.124 |
| 号番号（no） | no.222 |
| ページ範囲 | pp.10-13 |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2024-10-17 (SDM) |
[研究会発表申込システムのトップページに戻る]