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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2024-10-24 10:40 Inhibitorを用いたメタル配線構造への絶縁膜選択成長 ○池 進一・河野有美子・東雲秀司・柏木勇作（東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ）  SDM2024-43 |
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| 抄録 | （和） | 半導体デバイススケーリングに伴い、パターニング工程の複雑化や工程数増加が問題となっている。リソグラフィーとエッチングを繰り返す従来のトップダウン手法ではなく、選択成長を用いたボトムアップ技術が注目されている。本研究では、完全自己整合ビア（FSAV）への適用をターゲットとして、Inhibitorを用いたCu/Low-k配線構造に対する絶縁膜の選択成長について報告する。チオールSAM処理を施したCu表面で酸化アルミニウム（Al2O3）および酸化シリコン（SiO2）薄膜の成膜阻害がみられ、Cu表面のみを選択的にパッシベーションできることがわかった。Cu/Low-kパターン構造上にて、膜厚6 nm以上のAl2O3およびSiO2膜のDonD（Dielectric on Dielectric）選択成長を実証した。 |
| （英） | (Not available yet) | |
| キーワード | （和） | 選択成長 / 自己組織化単分子膜（SAM） / 自己整合ビア（FSAV） / Copper / Aluminum oxide / Silicon oxide / / |
| （英） | / / / / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 124, no. 222, SDM2024-43, pp. 1-4, 2024年10月. | |
| 資料番号 | SDM2024-43 | |
| 発行日 | 2024-10-17 (SDM) | |
| ISSN | Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | SDM2024-43 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
| 開催期間 | 2024-10-24 - 2024-10-24 |
| 開催地（和） | 東北大学未来情報産業研究館５Ｆ |
| 開催地（英） | NICHe, Tohoku Univ. |
| テーマ（和） | プロセス科学と新プロセス技術 |
| テーマ（英） | Process Science and New Process Technology |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | SDM |
| 会議コード | 2024-10-SDM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | Inhibitorを用いたメタル配線構造への絶縁膜選択成長 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Development of Area Selective Deposition of Dielectric film on Metal/Low-k with Inhibitor Passivation |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 選択成長 / |
| キーワード(2)（和/英） | 自己組織化単分子膜（SAM） / |
| キーワード(3)（和/英） | 自己整合ビア（FSAV） / |
| キーワード(4)（和/英） | Copper / |
| キーワード(5)（和/英） | Aluminum oxide / |
| キーワード(6)（和/英） | Silicon oxide / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 池 進一 / Shinichi Ike / イケ シンイチ |
| 第1著者 所属（和/英） | 東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ株式会社 (略称： 東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ) Tokyo Electron Technology Solutions Limited (略称： TTS) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 河野 有美子 / Yumiko Kawano / カワノ ユミコ |
| 第2著者 所属（和/英） | 東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ株式会社 (略称： 東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ) Tokyo Electron Technology Solutions Limited (略称： TTS) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 東雲 秀司 / Shuji Azumo / アズモ シュウジ |
| 第3著者 所属（和/英） | 東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ株式会社 (略称： 東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ) Tokyo Electron Technology Solutions Limited (略称： TTS) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 柏木 勇作 / Yusaku Kashiwagi / カシワギ ユウサク |
| 第4著者 所属（和/英） | 東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ株式会社 (略称： 東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ) Tokyo Electron Technology Solutions Limited (略称： TTS) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2024-10-24 10:40:00 |
| 発表時間 | 20分 |
| 申込先研究会 | SDM |
| 資料番号 | SDM2024-43 |
| 巻番号（vol） | vol.124 |
| 号番号（no） | no.222 |
| ページ範囲 | pp.1-4 |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2024-10-17 (SDM) |
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