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講演抄録/キーワード
講演名 2025-01-16 14:40
プロセスばらつきを考慮した交互最小化を用いたソースマスク最適化
倉持匡希小平行秀会津大)・高橋篤司Science Tokyo)・児玉親亮キオクシアVLD2024-83 RECONF2024-113
抄録 (和) 半導体の微細化において,光リソグラフィプロセスの解像度向上は重要な課題となっている.光リソグラフィにおける露光用の照明(ソース) とマスクを最適化するソースマスク最適化(Source Mask Optimization, SMO) は解像度向上に有効であり,これまでに様々な手法が提案されている.解像度向上のためには,ターゲットパタンに対する露光パタンの忠実度とプロセスばらつきへの耐性の向上が求められる.本論文では,これらの課題に対し,SMOにおいて,ソース最適化を線形計画問題として定式化し,既存のガイド付き局所探索に基づくマスク最適化(Guided Local Search - Mask Optimization, GLS-MO) と組み合わせた最適化手法を提案する.提案手法では,評価点における光強度を用いた目的関数に基づき,ソースの強度分布とマスク形状を交互に最適化することで,露光パタンの忠実度とプロセスばらつきへの耐性の向上を図る.複数のテストパタンによる評価実験により,提案手法の有効性を確認した. 
(英)
キーワード (和) 光リソグラフィ / ソースマスク最適化 / 光近接効果補正 / / / / /  
(英) / / / / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 124, no. 329, VLD2024-83, pp. 41-46, 2025年1月.
資料番号 VLD2024-83 
発行日 2025-01-09 (VLD, RECONF) 
ISSN Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード VLD2024-83 RECONF2024-113

研究会情報
研究会 VLD RECONF  
開催期間 2025-01-16 - 2025-01-17 
開催地(和) キオクシア 横浜テクノロジーキャンパス Flagship棟 
開催地(英) Yokohama Technology Campus Flagship Building 
テーマ(和) FPGA 応用および一般 
テーマ(英) FPGA Applications, etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 VLD 
会議コード 2025-01-VLD-RECONF 
本文の言語 日本語(英語タイトルなし) 
タイトル(和) プロセスばらつきを考慮した交互最小化を用いたソースマスク最適化 
サブタイトル(和)  
タイトル(英)  
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 光リソグラフィ /  
キーワード(2)(和/英) ソースマスク最適化 /  
キーワード(3)(和/英) 光近接効果補正 /  
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キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 倉持 匡希 / / クラモチ マサキ
第1著者 所属(和/英) 会津大学 (略称: 会津大)
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第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 小平 行秀 / / コヒラ ユキヒデ
第2著者 所属(和/英) 会津大学 (略称: 会津大)
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第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 高橋 篤司 / / アツシ タカハシ
第3著者 所属(和/英) 東京科学大学 (略称: Science Tokyo)
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第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 児玉 親亮 / /
第4著者 所属(和/英) キオクシア株式会社 (略称: キオクシア)
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講演者 第1著者 
発表日時 2025-01-16 14:40:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 VLD 
資料番号 VLD2024-83, RECONF2024-113 
巻番号(vol) vol.124 
号番号(no) no.329(VLD), no.330(RECONF) 
ページ範囲 pp.41-46 
ページ数
発行日 2025-01-09 (VLD, RECONF) 


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