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講演抄録/キーワード
講演名 2025-03-19 11:10
大規模言語モデルを用いた卒業アルバムにおけるレイアウト生成に関する提案
松田 展佐野睦夫阪工大PRMU2024-58
抄録 (和) 卒業アルバムの制作現場において,レイアウトの作成はレイアウターによって行われており,ページの外観を決定するうえで非常に重要な作業である.見開きのページに含まれる写真は非常に多く,非常に労力がかかる作業だといえる.レイアウターの負担の軽減および作業の効率化のためには,この作業を支援するシステムが必要であると考えられる.本研究では,大規模言語モデル(Large Language Models, LLM)などの技術を用いて,卒業アルバムのレイアウトを生成するシステムを提案する.実験では,複数の画像を入力してレイアウトの生成を行い,出力されたレイアウトの外観について考察を行う. 
(英) In the production of a graduation album, the layout is created by the layouter and is a very important task in determining the appearance of the pages. The number of photos contained in a spread is very large, and this is a very labor-intensive task. In order to reduce the burden on the layouter and improve the efficiency of the work, a system that supports this task is considered necessary. In this study, we propose a system that generates layouts for graduation albums using techniques such as Large language models (LLM). In our experiments, we generate layouts by inputting multiple images and discuss the appearance of the output layouts.
キーワード (和) レイアウト生成 / 大規模言語モデル / 顔検出 / ファインチューニング / / / /  
(英) layout generation / large language model / face detection / fine tuning / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 124, no. 445, PRMU2024-58, pp. 70-75, 2025年3月.
資料番号 PRMU2024-58 
発行日 2025-03-11 (PRMU) 
ISSN Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード PRMU2024-58

研究会情報
研究会 PRMU IPSJ-CVIM IBISML  
開催期間 2025-03-18 - 2025-03-19 
開催地(和) 滋賀大学 彦根キャンパス 
開催地(英)  
テーマ(和) 基盤モデルとその応用 (PRMU/IPSJ-CVIM)、機械学習一般 (IBISML) 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 PRMU 
会議コード 2025-03-PRMU-CVIM-IBISML 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 大規模言語モデルを用いた卒業アルバムにおけるレイアウト生成に関する提案 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Proposal for Layout Generation in Graduation Albums Using Large Language Models 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) レイアウト生成 / layout generation  
キーワード(2)(和/英) 大規模言語モデル / large language model  
キーワード(3)(和/英) 顔検出 / face detection  
キーワード(4)(和/英) ファインチューニング / fine tuning  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 松田 展 / Hiraku Matsuda / マツダ ヒラク
第1著者 所属(和/英) 大阪工業大学 (略称: 阪工大)
Osaka Institute of Technology (略称: OIT)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 佐野 睦夫 / Mutsuo Sano / サノ ムツオ
第2著者 所属(和/英) 大阪工業大学 (略称: 阪工大)
Osaka Institute of Technology (略称: OIT)
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講演者 第1著者 
発表日時 2025-03-19 11:10:00 
発表時間 15分 
申込先研究会 PRMU 
資料番号 PRMU2024-58 
巻番号(vol) vol.124 
号番号(no) no.445 
ページ範囲 pp.70-75 
ページ数
発行日 2025-03-11 (PRMU) 


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