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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2025-04-19 11:25 スパッタ法による低温ポリSi TFT ～ ポリマー上のSi膜の結晶化 ～ ○野口 隆（NIT (エヌアイティー)）  SDM2025-14 OME2025-14 |
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| 抄録 | （和） | 昨年２０２４年度、AWADの発表内容をもとに発表。 |
| （英） | Sputtered deposition process can decrease the fabrication temperature of poly Si TFT. For thin silicon film deposited by sputtering, in general, Ar gas is adopted by a requirement of deposition rate (relating to sputter efficiency) as well as the process cost. However, after the Si film deposition, considerable amount of Ar atoms are easily incorporated into the Si network. The residual Ar atom as well as the impurity gas such as oxygen disturbs the subsequent crystallization of Si film by SPC (Solid Phase Crystallization) or LA (Laser Annealing). To crystallize the sputtered amorphous silicon effectively using ELA (Excimer Laser Annealing), sputtered deposition using He gas has been reported. Additionally, the effects of various rare gas such as Xe or Ne for the deposition by sputtered silicon films on the crystallization have been studied aiming to the flexible TFTs onto low-cost polymer sheets, and is reviewed based on reported results. |
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| キーワード | （和） | スパッタ / ポリシリコン / 薄膜トランジスタ / 低温ポリシリコン / 平面ディスプレイ / 希ガス ヘリウム、ネオン、キセノン / レーザーアニール / ポリマー フレキシブル |
| （英） | sputtering / polyＳi, / TFT / LTPS / FPD / rare gas. (He, Ne Xe) / LA (ELA, BLDA) / Polymer flexible | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 125, no. 10, SDM2025-14, pp. 47-48, 2025年4月. | |
| 資料番号 | SDM2025-14 | |
| 発行日 | 2025-04-11 (SDM, OME) | |
| ISSN | Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | SDM2025-14 OME2025-14 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM OME |
| 開催期間 | 2025-04-18 - 2025-04-19 |
| 開催地（和） | 沖縄県青年会館 |
| 開催地（英） | Okinawaken Seinen Kaikan |
| テーマ（和） | 薄膜（Si,化合物,有機,フレキシブル）機能デバイス・バイオテクノロジー・材料・評価技術および一般 |
| テーマ（英） | Thin film devices (Si, compound, organic, flexible), Biotechnology, Materials, Characterization, etc. |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | SDM |
| 会議コード | 2025-04-SDM-OME |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | スパッタ法による低温ポリSi TFT |
| サブタイトル（和） | ポリマー上のSi膜の結晶化 |
| タイトル（英） | Low Temperature Poly Si TFT by sputtering technique |
| サブタイトル（英） | Effective Crystallization on Polymer Sheets |
| キーワード(1)（和/英） | スパッタ / sputtering |
| キーワード(2)（和/英） | ポリシリコン / polyＳi, |
| キーワード(3)（和/英） | 薄膜トランジスタ / TFT |
| キーワード(4)（和/英） | 低温ポリシリコン / LTPS |
| キーワード(5)（和/英） | 平面ディスプレイ / FPD |
| キーワード(6)（和/英） | 希ガス ヘリウム、ネオン、キセノン / rare gas. (He, Ne Xe) |
| キーワード(7)（和/英） | レーザーアニール / LA (ELA, BLDA) |
| キーワード(8)（和/英） | ポリマー フレキシブル / Polymer flexible |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 野口 隆 / Takashi Noguchi / ノグチ タカシ |
| 第1著者 所属（和/英） | N-コンサルティング (琉球大学) (略称： NIT (エヌアイティー)) N-consulting Institute of Technology (略称： NIT) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2025-04-19 11:25:00 |
| 発表時間 | 15分 |
| 申込先研究会 | SDM |
| 資料番号 | SDM2025-14, OME2025-14 |
| 巻番号（vol） | vol.125 |
| 号番号（no） | no.10(SDM), no.11(OME) |
| ページ範囲 | pp.47-48 |
| ページ数 | 2 |
| 発行日 | 2025-04-11 (SDM, OME) |
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