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| 講演名 | 2025-06-06 13:00 ［招待講演］酸化ゲルマニウム薄膜の相制御とそのデバイス応用 ○島添和樹（名工大）・鐘ケ江一孝・清家一朗・西中浩之（京都工繊大）  ED2025-11 |
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| 抄録 | （和） | ルチル構造酸化ゲルマニウム(r-GeO2)は4.6 eVという超ワイドバンドギャップを有しながらpn両極性伝導が理論的に予測されていることから，次世代のパワー半導体材料として有望である．GeO2は複数の結晶多形を示すため，その相制御は重要である．本研究ではr-GeO2と同じルチル構造であるGexSn1-xO2バッファ層を用いたGeO2の相制御を試みた．TiO2基板上にGeO2を成長した場合，ルチル相に加えてアモルファス相やα石英相が成長することが明らかになった．一方で，GexSn1-xO2の組成を傾斜させ，段階的に格子ミスマッチを低減させた傾斜バッファ層をTiO2基板上に挿入することで単相のr-GeO2の成長に成功した．また，Nb添加TiO2基板上に成長したr-GeO2を用いた縦型ショットキーバリアダイオードは整流特性を示し，低いオン抵抗を示した． |
| （英） | (Not available yet) | |
| キーワード | （和） | 二酸化ゲルマニウム / ミストCVD / / / / / / |
| （英） | Germanium dioxide / mist CVD / / / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 125, no. 62, ED2025-11, pp. 1-3, 2025年6月. | |
| 資料番号 | ED2025-11 | |
| 発行日 | 2025-05-30 (ED) | |
| ISSN | Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | ED2025-11 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | ED |
| 開催期間 | 2025-06-06 - 2025-06-06 |
| 開催地（和） | 山形大学（米沢キャンパス） |
| 開催地（英） | Yamagata University (Yonezawa Campus) |
| テーマ（和） | 薄膜材料デバイス，一般 |
| テーマ（英） | Thin film materials and devices, general |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | ED |
| 会議コード | 2025-06-ED |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 酸化ゲルマニウム薄膜の相制御とそのデバイス応用 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Polymorph Engineering of Germanium Dioxide Thin Films and its Device Demonstration |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 二酸化ゲルマニウム / Germanium dioxide |
| キーワード(2)（和/英） | ミストCVD / mist CVD |
| キーワード(3)（和/英） | / |
| キーワード(4)（和/英） | / |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 島添 和樹 / Kazuki Shimazoe / シマゾエ カズキ |
| 第1著者 所属（和/英） | 名古屋工業大学 (略称： 名工大) Nagoya Institute of Technology (略称： Nagoya Inst. of Tech.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 鐘ケ江 一孝 / Kazutaka Kanegae / カネガエ カズタカ |
| 第2著者 所属（和/英） | 京都工芸繊維大学 (略称： 京都工繊大) Kyoto Institute of Technology (略称： Kyoto Inst. Tech.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 清家 一朗 / Ichiro Seike / セイケ イチロウ |
| 第3著者 所属（和/英） | 京都工芸繊維大学 (略称： 京都工繊大) Kyoto Institute of Technology (略称： Kyoto Inst. Tech.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 西中 浩之 / Hiroyuki Nishinaka / ニシナカ ヒロユキ |
| 第4著者 所属（和/英） | 京都工芸繊維大学 (略称： 京都工繊大) Kyoto Institute of Technology (略称： Kyoto Inst. Tech.) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2025-06-06 13:00:00 |
| 発表時間 | 50分 |
| 申込先研究会 | ED |
| 資料番号 | ED2025-11 |
| 巻番号（vol） | vol.125 |
| 号番号（no） | no.62 |
| ページ範囲 | pp.1-3 |
| ページ数 | 3 |
| 発行日 | 2025-05-30 (ED) |
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