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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2025-07-11 09:35 金属回折格子付シリコンフォトダイオードにおける光感度特性のFDTD解析と測定 ○大井魁人・川上哲矢・佐藤弘明（静岡大）  EMT2025-34 MW2025-47 OPE2025-37 EST2025-33 MWPTHz2025-47 |
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| 抄録 | （和） | pn接合のシリコンフォトダイオードは，バルク基板に形成された場合には光吸収長を十分に確保できるとともに，CMOS集積回路技術を利用できるため，高感度なイメージセンサの画素として応用されている．一方，CMOS集積回路においてはデバイス単体の微細化によって性能の進展を遂げてきたが，フォトダイオードの微細化については検討が限定的である．本報告ではシリコンフォトダイオードの微細化に向けた一検討として，小型なシリコンフォトダイオードに金属回折格子を近接させた場合の光感度特性について，FDTD法による解析結果と測定結果の両面から議論する． |
| （英） | A pn-junction silicon photodiode has been successfully applied to pixels of image sensor with high light sensitivity, because sufficient light absorption length can be obtained when the photodiode was fabricated in bulk silicon substrate, and silicon CMOS integrated circuit technology can be directly adopted for device fabrications. On the other hand, the miniaturizations of a unit device in CMOS integrated circuits could contribute to significant performance improvements, but studies on the miniaturization of silicon photodiode are limited so far. In this report, the results of light sensitivity characteristics in the silicon photodiode with metal diffraction grating toward the silicon photodiode miniaturization based on both FDTD analyses and measurements are discussed. | |
| キーワード | （和） | 光感度 / 金属回折格子 / シリコンフォトダイオード / FDTD法 / / / / |
| （英） | light sensitivity / metal diffraction grating / silicon photodiode / FDTD method / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 125, no. 111, EST2025-33, pp. 134-138, 2025年7月. | |
| 資料番号 | EST2025-33 | |
| 発行日 | 2025-07-03 (EMT, MW, OPE, EST, MWPTHz) | |
| ISSN | Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | EMT2025-34 MW2025-47 OPE2025-37 EST2025-33 MWPTHz2025-47 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | EMT OPE EST MWPTHz MW IEE-EMT |
| 開催期間 | 2025-07-10 - 2025-07-11 |
| 開催地（和） | オホーツクJA Bldg. |
| 開催地（英） | Okhotsk JA Bldg. |
| テーマ（和） | 光・電波ワークショップ |
| テーマ（英） | Workshop on Optical and Microwave technologies |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | EST |
| 会議コード | 2025-07-EMT-OPE-EST-MWPTHz-MW-EMT |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 金属回折格子付シリコンフォトダイオードにおける光感度特性のFDTD解析と測定 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | FDTD Analysis and Measurement of Light Sensitivity Characteristics in Silicon Photodiode with Metal Diffraction Grating |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 光感度 / light sensitivity |
| キーワード(2)（和/英） | 金属回折格子 / metal diffraction grating |
| キーワード(3)（和/英） | シリコンフォトダイオード / silicon photodiode |
| キーワード(4)（和/英） | FDTD法 / FDTD method |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 大井 魁人 / Kaito Oi / オオイ カイト |
| 第1著者 所属（和/英） | 静岡大学 (略称： 静岡大) Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 川上 哲矢 / Tetsuya Kawakami / カワカミ テツヤ |
| 第2著者 所属（和/英） | 静岡大学 (略称： 静岡大) Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 佐藤 弘明 / Hiroaki Satoh / サトウ ヒロアキ |
| 第3著者 所属（和/英） | 静岡大学 (略称： 静岡大) Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2025-07-11 09:35:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | EST |
| 資料番号 | EMT2025-34, MW2025-47, OPE2025-37, EST2025-33, MWPTHz2025-47 |
| 巻番号（vol） | vol.125 |
| 号番号（no） | no.108(EMT), no.109(MW), no.110(OPE), no.111(EST), no.112(MWPTHz) |
| ページ範囲 | pp.134-138 |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | 2025-07-03 (EMT, MW, OPE, EST, MWPTHz) |
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