| 電子情報通信学会 研究会発表申込システム 講演論文 詳細 |
技報閲覧サービス [ログイン] 技報アーカイブ |
| トップに戻る | 前のページに戻る | [Japanese] / [English] |
| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2025-12-12 10:25 エピタキシャル成長した六方晶窒化ホウ素を絶縁層に用いた平面型電子放出デバイスの開発 ○村上勝久（産総研）・六川 蓮・鷹尾祥典（横浜国大）・村田博雅・長尾昌善（産総研）  ED2025-49 |
|
| 抄録 | （和） | (まだ登録されていません) |
| （英） | (Not available yet) | |
| キーワード | （和） | / / / / / / / |
| （英） | / / / / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 125, no. 287, ED2025-49, pp. 27-28, 2025年12月. | |
| 資料番号 | ED2025-49 | |
| 発行日 | 2025-12-04 (ED) | |
| ISSN | Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | ED2025-49 |
|
| 研究会情報 | |
| 研究会 | ED |
| 開催期間 | 2025-12-11 - 2025-12-12 |
| 開催地（和） | ウインクあいち（愛知県産業労働センター） |
| 開催地（英） | WINC AICHI |
| テーマ（和） | 電子・イオンビーム応用 |
| テーマ（英） | Applications of electron and ion beam |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | ED |
| 会議コード | 2025-12-ED |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | エピタキシャル成長した六方晶窒化ホウ素を絶縁層に用いた平面型電子放出デバイスの開発 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Development of planar type electron emission devices using epitaxially grown hexagonal boron nitirde as an insulating layer |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | / |
| キーワード(2)（和/英） | / |
| キーワード(3)（和/英） | / |
| キーワード(4)（和/英） | / |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 村上 勝久 / Katsuhisa Murakami / ムラカミ カツヒサ |
| 第1著者 所属（和/英） | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 (略称： 産総研) National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称： AIST) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 六川 蓮 / Ren Mutsukawa / ムツカワ レン |
| 第2著者 所属（和/英） | 横浜国立大学 (略称： 横浜国大) Yokohama National University (略称： YNU) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 鷹尾 祥典 / Yoshinori Takao / タカオ ヨシノリ |
| 第3著者 所属（和/英） | 横浜国立大学 (略称： 横浜国大) Yokohama National University (略称： YNU) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 村田 博雅 / Hiromasa Murata / ムラタ ヒロマサ |
| 第4著者 所属（和/英） | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 (略称： 産総研) National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称： AIST) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 長尾 昌善 / Masayoshi Nagao / ナガオ マサヨシ |
| 第5著者 所属（和/英） | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 (略称： 産総研) National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称： AIST) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2025-12-12 10:25:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | ED |
| 資料番号 | ED2025-49 |
| 巻番号（vol） | vol.125 |
| 号番号（no） | no.287 |
| ページ範囲 | pp.27-28 |
| ページ数 | 2 |
| 発行日 | 2025-12-04 (ED) |
[研究会発表申込システムのトップページに戻る]