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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2026-01-22 13:30 ［招待講演］大型熱フィラメントCVD法による高品質ダイヤモンド結晶成長とセンサ応用 ～ ショットキーバリアダイオードおよび電気化学センサの均一性向上 ～ ○大曲新矢（産総研）  ED2025-64 MW2025-175 |
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| 抄録 | （和） | 熱フィラメントCVD法は、タングステン、タンタル等の高融点金属ワイヤーを通電加熱によって加熱し（>2200℃）、原料ガスを分解して前駆体を生成する方法である。原理的に成膜面積の制約がなく、12インチ以上の領域にダイヤモンド薄膜を形成することが出来る。この特徴を活用して、硬質皮膜・工具コーティング応用、電気化学センサ、水処理用電極としての産業利用が広がっており、また近年ではGaN-HEMT用のヒートスプレッダ、単結晶ダイヤモンドデバイス応用に注目を集めている。 これまで熱フィラメントCVD法は、低い成長速度（~0.1 um/h）と金属ワイヤーからの不純物混入が課題でありエレクトロニクス用途への応用は限定的であったが、近年、超高濃度p型、n型ドーピングが可能であること、高融点の炭化タンタルを用いることで3000℃のフィラメント温度を実現でき、10 um/hを超える高速成長が可能であることが報告された。超高濃度ドーピングに関しては、金属半導体界面の接触抵抗を下げるのみならず、プラズマCVD法と比べてマスクパターンへのダメージが少ないため、微細なコンタクト層への応用が期待される。また、高速成長については、熱源とダイヤモンド基板表面までの距離と成長温度を適切に制御することにより、結晶性の高い単結晶厚膜が得られている。本講演では、大型熱フィラメントCVD法によるダイヤモンドの結晶成長の現状と課題をレビューし、電子デバイスおよび化学センサの応用の観点から本成膜手法を議論する。 |
| （英） | (Not available yet) | |
| キーワード | （和） | ダイヤモンド / CVD / ドーピング / フィラメント / / / / |
| （英） | diamond / CVD / doping / filament / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 125, no. 326, ED2025-64, pp. 1-4, 2026年1月. | |
| 資料番号 | ED2025-64 | |
| 発行日 | 2026-01-15 (ED, MW) | |
| ISSN | Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | ED2025-64 MW2025-175 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | ED MW |
| 開催期間 | 2026-01-22 - 2026-01-23 |
| 開催地（和） | 藤沢商工会議所（303会議室） |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | 化合物半導体ICおよび超高速・超高周波デバイス／マイクロ波一般 |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | ED |
| 会議コード | 2026-01-ED-MW |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 大型熱フィラメントCVD法による高品質ダイヤモンド結晶成長とセンサ応用 |
| サブタイトル（和） | ショットキーバリアダイオードおよび電気化学センサの均一性向上 |
| タイトル（英） | High-quality diamond growth via large-area hot-filament CVD and their sensor applications |
| サブタイトル（英） | Enhanced uniformity of Schottky barrier diodes and electrochemical sensors |
| キーワード(1)（和/英） | ダイヤモンド / diamond |
| キーワード(2)（和/英） | CVD / CVD |
| キーワード(3)（和/英） | ドーピング / doping |
| キーワード(4)（和/英） | フィラメント / filament |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 大曲 新矢 / Shinya Ohmagari / オオマガリ シンヤ |
| 第1著者 所属（和/英） | 産業技術総合研究所 (略称： 産総研) National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称： AIST) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2026-01-22 13:30:00 |
| 発表時間 | 40分 |
| 申込先研究会 | ED |
| 資料番号 | ED2025-64, MW2025-175 |
| 巻番号（vol） | vol.125 |
| 号番号（no） | no.326(ED), no.327(MW) |
| ページ範囲 | pp.1-4 |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2026-01-15 (ED, MW) |
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