| 講演抄録/キーワード |
| 講演名 |
2026-01-28 14:05
[招待講演]将来の高密度および低消費電力3D DRAMのための高積層可能な酸化物半導体チャネルトランジスタ技術 ○増田貴史・越智孝光・杉崎 剛・秋田貴誉・木村史哉・佐藤希一・氏家 勇・望月想太・岩山昌由・坂田敦子・宮野信治・江城一樹・上田知正・斉藤信美・池田圭司・岡嶋 睦(キオクシア) SDM2025-67 |
| 抄録 |
(和) |
我々は酸化物半導体InGaZnOチャネルトランジスタを搭載した3D DRAM(3D OCTRAM)を提案した.作製したリプレースメント型InGaZnOチャネルトランジスタにおいて極低オフリーク電流($<10^{-18} mathrm{, A/cell}$)を実証し,またセルトランジスタを8層一括加工で形成しその動作に成功した.これにより,3D OCTRAMが高密度・低消費電力3D DRAMとして有望であることを示した. |
| (英) |
We have proposed a 3D Oxide-semiconductor Channel Transistor DRAM(3D OCTRAM), which uses a replacement-type InGaZnO channel transistor. The fabricated transistor demonstrates extremely low off state leakage current ($<10^{-18} mathrm{, A/cell}$). An 8-layer stacked cell transistor was successfully fabricated, confirming excellent transfer characteristics across all layers. We conclude that 3D OCTRAM is a promising candidate for future high-density and low-power 3D DRAM. |
| キーワード |
(和) |
InGaZnO / 酸化物半導体 / OCTRAM / DRAM / / / / |
| (英) |
InGaZnO / Oxide Semiconductor / OCTRAM / DRAM / / / / |
| 文献情報 |
信学技報, vol. 125, no. 347, SDM2025-67, pp. 7-8, 2026年1月. |
| 資料番号 |
SDM2025-67 |
| 発行日 |
2026-01-21 (SDM) |
| ISSN |
Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
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