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講演抄録／キーワード
講演名
2026-08-04 10:00
［招待講演］2nm以細技術ノードに向けたhigh-k/メタルゲートスタックのCETスケーリング：展望と課題
○
森田行則
・
川那子高暢
・
神岡武文
（
産総研/LSTC
）・
三谷祐一郎
（
東京都市大/LSTC
）・
生田目俊秀
・
女屋 崇
・
深田直樹
・
ジェバスワン ウイパコーン
・
塚越一仁
（
物質・材料研究機構/LSTC
）・
星井拓也
（
東京科学大/LSTC
）・
トープラサートポン カシディット
・
田村敦史
・
喜多浩之
（
東大/LSTC
）・
岡田直也
・
間部謙三
・
水林 亘
・
太田裕之
・
松川 貴
・
右田真司
（
産総研/LSTC
）
抄録
（和）
(開催日以降に掲載されます)
（英）
(Available after conference date)
キーワード
（和）
High-k
/
メタルゲート
/
ゲートスタック
/
CET
/
HfO2
/
ZrO2
/
界面層
/
（英）
High-k
/
Metal gate
/
Gate stack
/
CET
/
HfO2
/
ZrO2
/
界面層
/
文献情報
信学技報
資料番号
発行日
2026-07-28 (SDM, ICD)
ISSN
Online edition: ISSN 2432-6380
PDFダウンロード
研究会情報
研究会
ICD SDM ITE-IST
開催期間
2026-08-04 - 2026-08-06
開催地（和）
北海道大学理学部2号館
開催地（英）
Hokkaido Univ, School of Science 2nd Bldg.
テーマ（和）
アナログ、アナデジ混載、RF及びセンサインタフェース回路、低電圧・低消費電力技術、新デバイス・回路とその応用
テーマ（英）
Analog, Mixed Analog and Digital, RF, and Sensor Interface, Low Voltage/Low Power Techniques, Novel Devices/Circuits, and the Applications
講演論文情報の詳細
申込み研究会
SDM
会議コード
2026-08-ICD-SDM-IST
本文の言語
日本語
タイトル（和）
2nm以細技術ノードに向けたhigh-k/メタルゲートスタックのCETスケーリング：展望と課題
サブタイトル（和）
タイトル（英）
Further Scaling of the Capacitance Equivalent Thickness (CET) In High-k/Metal Gate Stacks Toward the 2nm Technology Node and Beyond: Prospects and Challenges
サブタイトル（英）
キーワード(1)（和/英）
High-k
/
High-k
キーワード(2)（和/英）
メタルゲート
/
Metal gate
キーワード(3)（和/英）
ゲートスタック
/
Gate stack
キーワード(4)（和/英）
CET
/
CET
キーワード(5)（和/英）
HfO2
/
HfO2
キーワード(6)（和/英）
ZrO2
/
ZrO2
キーワード(7)（和/英）
界面層
/
界面層
キーワード(8)（和/英）
/
第1著者 氏名（和/英/ヨミ）
森田 行則
/
Yukinori Morita
/
モリタ ユキノリ
第1著者 所属（和/英）
産業技術総合研究所/LSTC
(略称：
産総研/LSTC
)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology/LSTC
(略称：
AIST/LSTC
)
第2著者 氏名（和/英/ヨミ）
川那子 高暢
/
Takamasa Kawanago
/
カワナゴ タカマサ
第2著者 所属（和/英）
産業技術総合研究所/LSTC
(略称：
産総研/LSTC
)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology/LSTC
(略称：
AIST/LSTC
)
第3著者 氏名（和/英/ヨミ）
神岡 武文
/
Takefumi Kamioka
/
タケフミ カミオカ
第3著者 所属（和/英）
産業技術総合研究所/LSTC
(略称：
産総研/LSTC
)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology/LSTC
(略称：
AIST/LSTC
)
第4著者 氏名（和/英/ヨミ）
三谷 祐一郎
/
Yuichiro Mitani
/
ミタニ ユウイチロウ
第4著者 所属（和/英）
東京都市大学/LSTC
(略称：
東京都市大/LSTC
)
Tokyo City University/LSTC
(略称：
Tokyo City Univ./LSTC
)
第5著者 氏名（和/英/ヨミ）
生田目 俊秀
/
Toshihide Nabatame
/
ナバタメ トシヒデ
第5著者 所属（和/英）
物質・材料研究機構/LSTC
(略称：
物質・材料研究機構/LSTC
)
National Institute for Materials Science/LSTC
(略称：
NIMS/LSTC
)
第6著者 氏名（和/英/ヨミ）
女屋 崇
/
Takashi Onaya
/
オナヤ タカシ
第6著者 所属（和/英）
物質・材料研究機構/LSTC
(略称：
物質・材料研究機構/LSTC
)
National Institute for Materials Science/LSTC
(略称：
NIMS/LSTC
)
第7著者 氏名（和/英/ヨミ）
深田 直樹
/
Naoki Fukata
/
フカタ ナオキ
第7著者 所属（和/英）
物質・材料研究機構/LSTC
(略称：
物質・材料研究機構/LSTC
)
National Institute for Materials Science/LSTC
(略称：
NIMS/LSTC
)
第8著者 氏名（和/英/ヨミ）
ジェバスワン ウイパコーン
/
Wipakorn Jevasuwan
/
ジェバスワン ウイパコーン
第8著者 所属（和/英）
物質・材料研究機構/LSTC
(略称：
物質・材料研究機構/LSTC
)
National Institute for Materials Science/LSTC
(略称：
NIMS/LSTC
)
第9著者 氏名（和/英/ヨミ）
塚越 一仁
/
Kazuhito Tsukagoshi
/
カズヒト ツカゴシ
第9著者 所属（和/英）
物質・材料研究機構/LSTC
(略称：
物質・材料研究機構/LSTC
)
National Institute for Materials Science/LSTC
(略称：
NIMS/LSTC
)
第10著者 氏名（和/英/ヨミ）
星井 拓也
/
Takuya Hoshii
/
ホシイ タクヤ
第10著者 所属（和/英）
東京科学大学/LSTC
(略称：
東京科学大/LSTC
)
Science Tokyo/LSTC
(略称：
Science Tokyo/LSTC
)
第11著者 氏名（和/英/ヨミ）
トープラサートポン カシディット
/
Kasidit Toprasertpong
/
トープラサートポン カシディット
第11著者 所属（和/英）
東京大学/LSTC
(略称：
東大/LSTC
)
The University of Tokyo/LSTC
(略称：
The Univ. Tokyo/LSTC
)
第12著者 氏名（和/英/ヨミ）
田村 敦史
/
Atsushi Tamura
/
アツシ タムラ
第12著者 所属（和/英）
東京大学/LSTC
(略称：
東大/LSTC
)
The University of Tokyo/LSTC
(略称：
The Univ. Tokyo/LSTC
)
第13著者 氏名（和/英/ヨミ）
喜多 浩之
/
Koji Kita
/
コウジ キタ
第13著者 所属（和/英）
東京大学/LSTC
(略称：
東大/LSTC
)
The University of Tokyo/LSTC
(略称：
The Univ. Tokyo/LSTC
)
第14著者 氏名（和/英/ヨミ）
岡田 直也
/
Naoya Okada
/
オカダ ナオヤ
第14著者 所属（和/英）
産業技術総合研究所/LSTC
(略称：
産総研/LSTC
)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology/LSTC
(略称：
AIST/LSTC
)
第15著者 氏名（和/英/ヨミ）
間部 謙三
/
Kenzo Manabe
/
マナベ ケンゾウ
第15著者 所属（和/英）
産業技術総合研究所/LSTC
(略称：
産総研/LSTC
)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology/LSTC
(略称：
AIST/LSTC
)
第16著者 氏名（和/英/ヨミ）
水林 亘
/
Wataru Mizubayashi
/
ミズバヤシ ワタル
第16著者 所属（和/英）
産業技術総合研究所/LSTC
(略称：
産総研/LSTC
)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology/LSTC
(略称：
AIST/LSTC
)
第17著者 氏名（和/英/ヨミ）
太田 裕之
/
Hiroyuki Ota
/
オオタ ヒロユキ
第17著者 所属（和/英）
産業技術総合研究所/LSTC
(略称：
産総研/LSTC
)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology/LSTC
(略称：
AIST/LSTC
)
第18著者 氏名（和/英/ヨミ）
松川 貴
/
Takashi Matsukawa
/
マツカワ タカシ
第18著者 所属（和/英）
産業技術総合研究所/LSTC
(略称：
産総研/LSTC
)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology/LSTC
(略称：
AIST/LSTC
)
第19著者 氏名（和/英/ヨミ）
右田 真司
/
Shinji Migita
/
ミギタ シンジ
第19著者 所属（和/英）
産業技術総合研究所/LSTC
(略称：
産総研/LSTC
)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology/LSTC
(略称：
AIST/LSTC
)
第20著者 氏名（和/英/ヨミ）
/ /
第20著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
第21著者 氏名（和/英/ヨミ）
/ /
第21著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
第22著者 氏名（和/英/ヨミ）
/ /
第22著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
第23著者 氏名（和/英/ヨミ）
/ /
第23著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
第24著者 氏名（和/英/ヨミ）
/ /
第24著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
第25著者 氏名（和/英/ヨミ）
/ /
第25著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
第26著者 氏名（和/英/ヨミ）
/ /
第26著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
第27著者 氏名（和/英/ヨミ）
/ /
第27著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
第28著者 氏名（和/英/ヨミ）
/ /
第28著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
第29著者 氏名（和/英/ヨミ）
/ /
第29著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
第30著者 氏名（和/英/ヨミ）
/ /
第30著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
第31著者 氏名（和/英/ヨミ）
/ /
第31著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
第32著者 氏名（和/英/ヨミ）
/ /
第32著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
第33著者 氏名（和/英/ヨミ）
/ /
第33著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
第34著者 氏名（和/英/ヨミ）
/ /
第34著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
第35著者 氏名（和/英/ヨミ）
/ /
第35著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
第36著者 氏名（和/英/ヨミ）
/ /
第36著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
講演者
第1著者
発表日時
2026-08-04 10:00:00
発表時間
45分
申込先研究会
SDM
資料番号
巻番号（vol）
vol.
号番号（no）
ページ範囲
ページ数
発行日
2026-07-28 (SDM, ICD)
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