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講演抄録/キーワード
講演名 2026-10-09 15:45
加熱イオン注入により作製したGa2O3 CAVETの電気的特性
○森原 淳(阪公立大)・松尾大輔・金野 舜・臼井洸佑・竹村真哉(日新イオン機器)・Wang Zhenwei(NICT)・Ferreyra A. Romualdo(阪公立大)・吉永純也(日本酸素)・伊庭義騎・寺内悠真(東京農工大)・田中浩平(日新イオン機器)・熊谷義直(東京農工大)・東脇正高(阪公立大) ED2026-20
抄録 (和) 本研究では、加熱イオン注入を用いてGa2O3 (010), (001) エピ基板上にそれぞれ電流アパーチャー縦型トランジスタ (CAVET) を作製し、そのデバイス特性評価を実施した。Ga2O3 (010) CAVETは、窒素 (N) の[010]方向への異方性拡散によるチャネル・アクセス層での意図しないキャリア補償や、CBL層中N濃度の低下により、高いオン抵抗 (Ron,sp) = 1.4 Ωcm2、低い耐圧 (Vbr) = 303 VといったGa2O3 (001) CAVETと比較してやや劣ったデバイス特性を示した。Ga2O3 (001) CAVETでは設計通りのキャリア分布および優れた電流ブロック層の特性が確認された。結果、Ron,sp = 72.6 mΩcm2やVbr = 756 Vといった良好なデバイス特性を示した。また、本研究で作製したGa2O3 (001) CAVETでは室温注入を用いて作製されたCAVETにおいて観測された、ソース電極端での早期破壊は確認されなかった。これは加熱イオン注入の利用による結晶ダメージ低減効果が寄与しているものと考えられる。 
(英) In this study, current aperture vertical FETs (CAVETs) were fabricated on Ga2O3 (010) and (001) epi-wafers using hot implantation of Si and N. The Ga2O3 (010) CAVET exhibited inferior device characteristics to those of the (001) CAVET, including high specific on-resistance (Ron,sp) of 1.4 Ωcm2 and a low breakdown voltage (Vbr) of 303 V due to anisotropic diffusion of N atoms in the [010] direction. On the other hand, the Ga2O3 (001) CAVET demonstrated superior device performance with an Ron,sp of 72.6 mΩcm2 and a Vbr of 756 V. Furthermore, the premature breakdown at the edge of the source electrode, which was observed in a CAVET fabricated using room-temperature implantation, was not observed in Ga2O3 (001) CAVET fabricated with the hot implantation. This improvement is attributed to the reduction in crystal damage achieved by the hot implantation.
キーワード (和) Ga2O3 / 縦型トランジスタ / 加熱イオン注入 / CAVET / ディープアクセプタ / 異方性拡散 / /  
(英) Ga2O3 / Vertical transistor / Hot implantation / CAVET / Deep acceptors / Anisotropic diffusion / /  
文献情報 信学技報, vol. 126, no. 190, ED2026-20, pp. 14-17, 2026年10月.
資料番号 ED2026-20 
発行日 2026-10-02 (ED) 
ISSN Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード ED2026-20

研究会情報
研究会 ED  
開催期間 2026-10-09 - 2026-10-09 
開催地(和) 高知工科大学(永国寺キャンパス) 
開催地(英) Kochi University of Technology (Eikokuji Campus) 
テーマ(和) 薄膜材料デバイス,一般 
テーマ(英) Thin film materials and devices, general 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 ED 
会議コード 2026-10-ED 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 加熱イオン注入により作製したGa2O3 CAVETの電気的特性 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Electrical Properties of Ga2O3 CAVETs Fabricated by Hot Implantation 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) Ga2O3 / Ga2O3  
キーワード(2)(和/英) 縦型トランジスタ / Vertical transistor  
キーワード(3)(和/英) 加熱イオン注入 / Hot implantation  
キーワード(4)(和/英) CAVET / CAVET  
キーワード(5)(和/英) ディープアクセプタ / Deep acceptors  
キーワード(6)(和/英) 異方性拡散 / Anisotropic diffusion  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 森原 淳 / Jun Morihara / モリハラ ジュン
第1著者 所属(和/英) 大阪公立大学 (略称: 阪公立大)
Osaka Metropolitan University (略称: Osaka Metropolitan Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 松尾 大輔 / Daisuke Matsuo / マツオ ダイスケ
第2著者 所属(和/英) 日新イオン機器株式会社 (略称: 日新イオン機器)
Nissin Ion Equipment Co., Ltd. (略称: Nissin Ion Equipment)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 金野 舜 / Shun Konno / コンノ シュン
第3著者 所属(和/英) 日新イオン機器株式会社 (略称: 日新イオン機器)
Nissin Ion Equipment Co., Ltd. (略称: Nissin Ion Equipment)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 臼井 洸佑 / Kosuke Usui / ウスイ コウスケ
第4著者 所属(和/英) 日新イオン機器株式会社 (略称: 日新イオン機器)
Nissin Ion Equipment Co., Ltd. (略称: Nissin Ion Equipment)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 竹村 真哉 / Shinya Takemura / タケムラ シンヤ
第5著者 所属(和/英) 日新イオン機器株式会社 (略称: 日新イオン機器)
Nissin Ion Equipment Co., Ltd. (略称: Nissin Ion Equipment)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) Wang Zhenwei / Zhenwei Wang / Wang Zhenwei
第6著者 所属(和/英) 国立研究開発法人 情報通信研究機構 (略称: NICT)
National Institute of Information and Communications Technology (略称: NICT)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) Ferreyra A. Romualdo / Romualdo A. Ferreyra / Ferreyra A. Romualdo
第7著者 所属(和/英) 大阪公立大学 (略称: 阪公立大)
Osaka Metropolitan University (略称: Osaka Metropolitan Univ.)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) 吉永 純也 / Junya Yoshinaga / ヨシナガ ジュンヤ
第8著者 所属(和/英) 日本酸素株式会社 (略称: 日本酸素)
Nippon Sanso Corporation (略称: Nippon Sanso Corp.)
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) 伊庭 義騎 / Yoshiki Iba / イバ ヨシキ
第9著者 所属(和/英) 東京農工大学 (略称: 東京農工大)
Tokyo University of Agriculture and Technology (略称: Tokyu Univ. of Agric. and Tech,)
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) 寺内 悠真 / Yuma Terauchi / テラウチ ユウマ
第10著者 所属(和/英) 東京農工大学 (略称: 東京農工大)
Tokyo University of Agriculture and Technology (略称: Tokyu Univ. of Agric. and Tech,)
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) 田中 浩平 / Kohei Tanaka / タナカ コウヘイ
第11著者 所属(和/英) 日新イオン機器株式会社 (略称: 日新イオン機器)
Nissin Ion Equipment Co., Ltd. (略称: Nissin Ion Equipment)
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) 熊谷 義直 / Yoshinao Kumagai / クマガイ ヨシナオ
第12著者 所属(和/英) 東京農工大学 (略称: 東京農工大)
Tokyo University of Agriculture and Technology (略称: Tokyu Univ. of Agric. and Tech,)
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) 東脇 正高 / Masataka Higashiwaki / ヒガシワキ マサタカ
第13著者 所属(和/英) 大阪公立大学 (略称: 阪公立大)
Osaka Metropolitan University (略称: Osaka Metropolitan Univ.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2026-10-09 15:45:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 ED 
資料番号 ED2026-20 
巻番号(vol) vol.126 
号番号(no) no.190 
ページ範囲 pp.14-17 
ページ数 4 
発行日 2026-10-02 (ED) 


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