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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2026-11-06 14:25 FPGAのプロセス微細化が故障注入攻撃のI/O応答限界に与える影響の定量評価 ○寺本菜々花・藤本大介（奈良先端大）・大須賀彩希・川村信一（産総研）・林 優一（奈良先端大）  HWS2026-74 ICD2026-24 |
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| 抄録 | （和） | 暗号モジュールに対する物理攻撃、特に意図的に計算誤りを誘発する故障注入攻撃（フォールト攻撃）は深刻な脅威となっている。フォールト攻撃はデバイスに外乱を導入して障害を引き起こすため、その耐性はハードウェア特性に依存する。これまでの研究はクロックの立ち上がり時間などの外部信号の変動に焦点を当ててきたが、CMOS製造プロセスの微細化が耐性に与える影響については定量的に検討されてこなかった。本研究は、プロセス微細化が故障注入攻撃に対するI/Oの応答限界、すなわち攻撃成功に必要なグリッチ条件に与える影響を定量的に評価することを目的とする。具体的には、3世代（130 nm、65 nm、20 nm）のプロセスで製造されたFPGAを用いて評価環境を構築し、グリッチによるクロック短縮に対するI/Oの応答限界を測定する。評価の結果、論理回路は微細化に伴い単調に高速化する一方、I/O回路の応答時間はプロセススケーリング則に必ずしも従わず、外部通信規格等に依存することが確認された。そのため、製造するCMOSプロセスごとに故障耐性を評価するには論理回路のデータパス遅延だけでなくI/O回路の応答特性も考慮する必要があることが示唆された。 |
| （英） | (Not available yet) | |
| キーワード | （和） | 故障利用攻撃 / CMOS微細化 / 暗号モジュール / クロックグリッチ / / / / |
| （英） | / / / / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 126, no. 225, HWS2026-74, pp. 7-11, 2026年11月. | |
| 資料番号 | HWS2026-74 | |
| 発行日 | 2026-10-30 (HWS, ICD) | |
| ISSN | Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | HWS2026-74 ICD2026-24 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | HWS ICD |
| 開催期間 | 2026-11-06 - 2026-11-06 |
| 開催地（和） | 奈良春日野国際フォーラム 甍 |
| 開催地（英） | Nara Kasugano International Forum I・RA・KA |
| テーマ（和） | ハードウェアセキュリティ，一般 |
| テーマ（英） | Hardware Security, etc. |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | HWS |
| 会議コード | 2026-11-HWS-ICD |
| 本文の言語 | 日本語（英語タイトルなし） |
| タイトル（和） | FPGAのプロセス微細化が故障注入攻撃のI/O応答限界に与える影響の定量評価 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 故障利用攻撃 / |
| キーワード(2)（和/英） | CMOS微細化 / |
| キーワード(3)（和/英） | 暗号モジュール / |
| キーワード(4)（和/英） | クロックグリッチ / |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 寺本 菜々花 / Nanaka Teramoto / テラモト ナナカ |
| 第1著者 所属（和/英） | 奈良先端科学技術大学院大学 (略称： 奈良先端大) Nara Institute of Science and Technology (略称： NAIST) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 藤本 大介 / Daisuke Fujimoto / フジモト ダイスケ |
| 第2著者 所属（和/英） | 奈良先端科学技術大学院大学 (略称： 奈良先端大) Nara Institute of Science and Technology (略称： NAIST) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 大須賀 彩希 / Saki Osuka / オオスカ サキ |
| 第3著者 所属（和/英） | 産業技術総合研究所 (略称： 産総研) National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称： AIST) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 川村 信一 / Shinichi Kawamura / カワムラ シンイチ |
| 第4著者 所属（和/英） | 産業技術総合研究所 (略称： 産総研) National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称： AIST) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 林 優一 / Yuichi Hayashi / ハヤシ ユウイチ |
| 第5著者 所属（和/英） | 奈良先端科学技術大学院大学 (略称： 奈良先端大) Nara Institute of Science and Technology (略称： NAIST) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2026-11-06 14:25:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | HWS |
| 資料番号 | HWS2026-74, ICD2026-24 |
| 巻番号（vol） | vol.126 |
| 号番号（no） | no.225(HWS), no.226(ICD) |
| ページ範囲 | pp.7-11 |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | 2026-10-30 (HWS, ICD) |
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