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講演抄録/キーワード
講演名
Clear Difference between the Chemical Structure of SiO2/Si Interfaces Formed Using Oxygen Radicals and Oxygen Molecules
Tomoyuki SuwaAkinobu TeramotoTadahiro OhmiTakeo HattoriTohoku Univ.)   エレソ技報アーカイブはこちら
抄録 (和) (まだ登録されていません) 
(英) Soft-x-ray-excited angle-resolved photoelectron spectroscopy studies on silicon dioxide films formed using oxygen radicals (OR) and oxygen molecules (OM) are reported. Most of suboxides are localized at and near the SiO2/Si interfaces. The suboxides formed utilizing OM are located extremely close to the interfaces, while suboxides formed utilizing OR are located not only at the interface but also in the Si substrate. This implies the penetration of a part of OR into the Si substrate to relax the interfacial stress. Intermediate chemical bonding states of Si are formed in Si substrate closer to the interface as compared with those formed utilizing OM. This implies that the interfacial stress in the former is smaller than that in the latter.
キーワード (和) / / / / / / /  
(英) XPS / SiO2/Si interface / radical oxidation / / / / /  
文献情報 信学技報
資料番号  
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研究会情報
研究会 SDM ED  
開催期間 2011-06-29 - 2011-07-01 
開催地(和) Legend Hotel 
開催地(英) Legend Hotel, Daejeon, Korea 
テーマ(和) AWAD2011 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices 
テーマ(英) AWAD2011 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 SDM 
会議コード 2011-06-SDM-ED 
本文の言語 英語 
タイトル(和)  
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Clear Difference between the Chemical Structure of SiO2/Si Interfaces Formed Using Oxygen Radicals and Oxygen Molecules 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) / XPS  
キーワード(2)(和/英) / SiO2/Si interface  
キーワード(3)(和/英) / radical oxidation  
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キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 諏訪 智之 / Tomoyuki Suwa /
第1著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 寺本 章伸 / Akinobu Teramoto /
第2著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 大見 忠弘 / Tadahiro Ohmi /
第3著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 服部 健雄 / Takeo Hattori /
第4著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
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講演者 第1著者 
発表日時  
発表時間 分 
申込先研究会 SDM 
資料番号  
巻番号(vol) vol. 
号番号(no)  
ページ範囲  
ページ数  
発行日  


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