| 電子情報通信学会 研究会発表申込システム 研究会 開催スケジュール |
技報閲覧サービス [ログイン] 技報アーカイブ |
すべての研究会開催スケジュール (検索条件: すべての年度)
| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| SDM | 2009-06-19 15:10 |
東京 | 東京大学（生産研An棟） | 低しきい値pMISFETに向けたAl2O3を堆積させたHfO2ゲート絶縁膜のアニールプロセスの検討 ○諸岡 哲・松木武雄・三瀬信行・神山 聡・生田目俊秀・栄森貴尚・奈良安雄・由上二郎・池田和人・大路 譲（半導体先端テクノロジーズ）  SDM2009-38 |
Al2O3/HfO2/SiON構造ゲート絶縁膜を形成するためのアニールプロセスとVfb, EOT及びVtバラツキとの関係... [more] | SDM2009-38 pp.67-70 |
| IE | 2009-03-16 14:10 |
愛媛 | テクノプラザ愛媛 | 半余弦関数ウェーブレットネットワークによる物体の大きさに注目した移動物体領域抽出 ○池田和敏・神酒 勤（九工大） IE2008-259 |
物体の大きさの違いを利用して、特定の大きさの移動物体の領域を抽出する実用的な方法を提案する。本手法では、階層型の基底関数... [more] | IE2008-259 pp.35-40 |
| SDM | 2006-06-22 10:30 |
広島 | 広島大学, 学士会館 | 角度分解光電子分光を用いたSiO2/SiN積層膜の窒素濃度分布の解析 ○豊田智史・岡林 潤・尾嶋正治（東大）・劉 国林・劉 紫園・池田和人・臼田宏治（半導体理工学研究センター） |
酸窒化膜の窒素濃度分布および化学結合状態はトランジスタの特性および構造を理解するために重要である。角度分解光電子分光法は... [more] | SDM2006-55 pp.77-80 |
[研究会発表申込システムのトップページに戻る]