| 研究会情報 |
| 研究会 |
SDM |
| 開催期間 |
2006-06-21 - 2006-06-22 |
| 開催地（和） |
広島大学, 学士会館 |
| 開催地（英） |
Faculty Club, Hiroshima Univ. |
| テーマ（和） |
ゲート絶縁膜、容量膜、機能膜およびメモリ技術 |
| テーマ（英） |
Science and Technologies of Dielectric Thin Films for Future Electron Devices |
| 講演論文情報の詳細 |
| 申込み研究会 |
SDM |
| 会議コード |
2006-06-SDM |
| 本文の言語 |
日本語 |
| タイトル（和） |
酸素雰囲気アニール中のHfO2/SiO2/Si(001)界面反応の高分解能RBS観察 |
| サブタイトル（和） |
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| タイトル（英） |
Interfacial reaction in HfO2/SiO2/Si(001) during O2 anneal observed by high-resolution RBS |
| サブタイトル（英） |
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| キーワード(1)（和/英） |
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| キーワード(2)（和/英） |
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| キーワード(3)（和/英） |
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| キーワード(4)（和/英） |
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| キーワード(5)（和/英） |
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| キーワード(7)（和/英） |
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| キーワード(8)（和/英） |
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| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） |
趙 明 / Zhao Ming / チョウ メイ |
| 第1著者 所属（和/英） |
京都大学マイクロエンジニアリング専攻 (略称： 京大)
Department of Micro Engineering, Kyoto University (略称： Kyoto Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） |
中嶋 薫 / Kaoru Nakajima / ナカジマ カオル |
| 第2著者 所属（和/英） |
京都大学マイクロエンジニアリング専攻 (略称： 京大)
Department of Micro Engineering, Kyoto University (略称： Kyoto Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） |
鈴木 基史 / Motofumi Suzuki / スズキ モトフミ |
| 第3著者 所属（和/英） |
京都大学マイクロエンジニアリング専攻 (略称： 京大)
Department of Micro Engineering, Kyoto University (略称： Kyoto Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） |
木村 健二 / Kenji Kimura / キムラ ケンジ |
| 第4著者 所属（和/英） |
京都大学マイクロエンジニアリング専攻 (略称： 京大)
Department of Micro Engineering, Kyoto University (略称： Kyoto Univ.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） |
植松 真司 / Masashi Uematsu / ウエマツ マサシ |
| 第5著者 所属（和/英） |
NTT物性科学基礎研究所 (略称： NTT)
NTT Basic Research Laboratories (略称： NTT BRL) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） |
鳥居 和功 / Kazuyoshi Torii / トリイ カズヨシ |
| 第6著者 所属（和/英） |
（株）半導体先端テクノロジーズ (略称： 半導体先端テクノロジーズ)
Semiconductor Leading Edge Technologies, Inc. (略称： Selete) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） |
神山 聡 / Satoshi Kamiyama / カミヤマ サトシ |
| 第7著者 所属（和/英） |
（株）半導体先端テクノロジーズ (略称： 半導体先端テクノロジーズ)
Semiconductor Leading Edge Technologies, Inc. (略称： Selete) |
| 第8著者 氏名（和/英/ヨミ） |
奈良 安雄 / Yasuo Nara / ナラ ヤスオ |
| 第8著者 所属（和/英） |
（株）半導体先端テクノロジーズ (略称： 半導体先端テクノロジーズ)
Semiconductor Leading Edge Technologies, Inc. (略称： Selete) |
| 第9著者 氏名（和/英/ヨミ） |
山田 啓作 / Keisaku Yamada / ヤマダ ケイサク |
| 第9著者 所属（和/英） |
早稲田大学ナノテクノロジー研究所 (略称： 早大)
Nanotechnology Reseach Laboratories, Waseda University (略称： Waseda Univ.) |
| 第10著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第10著者 所属（和/英） |
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| 第11著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第11著者 所属（和/英） |
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| 第12著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第12著者 所属（和/英） |
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| 第13著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第14著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第15著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第16著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第17著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第18著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第19著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第20著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第21著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第22著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第22著者 所属（和/英） |
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| 第23著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第24著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第25著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第26著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第27著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第28著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第29著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第30著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第30著者 所属（和/英） |
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| 第31著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第31著者 所属（和/英） |
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| 第32著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第32著者 所属（和/英） |
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| 第33著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第33著者 所属（和/英） |
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| 第34著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第34著者 所属（和/英） |
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| 第35著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第35著者 所属（和/英） |
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| 第36著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 第36著者 所属（和/英） |
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| 講演者 |
第2著者 |
| 発表日時 |
2006-06-22 13:10:00 |
| 発表時間 |
25分 |
| 申込先研究会 |
SDM |
| 資料番号 |
SDM2006-59 |
| 巻番号（vol） |
vol.106 |
| 号番号（no） |
no.108 |
| ページ範囲 |
pp.99-102 |
| ページ数 |
4 |
| 発行日 |
2006-06-14 (SDM) |