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講演抄録/キーワード
講演名 2006-08-03 14:50
ダイヤモンドからの電子放出
鹿田真一山田貴壽Christoph Nebel産総研
抄録 (和) (111)n型ダイヤモンドの表面を処理して、水素終端、酸素終端、再構成表面(炭素終端)を作り、電子放出特性を調べた。その結果、電子放出電界が、各々44、28、16V/μmであり、低い正の電子親和力を有する再構成表面からの放出が最も低かった。再構成表面の試料のFNプロットから、低電界ではCBからの電子、高電界ではドナーレベルからの電子放出が支配的であることが、推定された。また再構成表面は、長時間放出の安定性に優れることも確認した。水素や酸素終端の場合、実用上終端表面を保持することが困難であるが、再構成表面は通電アニールにより容易に再生可能であり、実用上も好ましいと考えられる。 
(英) Field emission characteristics of H, O terminated and reconstructed surface of (111) n type diamond are measured. Field emission threshold voltage are 44, 28 and 16V/μm for H, O terminated and reconstructed (C) surface, respectively. By the FN plot of reconstructed surface, it is estimated that electron from conduction band is observed at low voltage and electron from donor level is observed at high voltage for the reconstructed surface. It has been confirmed that the emission stability can be expected for the reconstructed surface. The reconstructed surface is suitable for future application of diamond to FE due to its regenerable feature, whereas the refleshment procedure is difficult for H and O terminated surface.
キーワード (和) ダイヤモンド / 電子放出 / 再構成表面 / n型 / / / /  
(英) Diamond / Field Emission / Re-constructed surface / n type / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 106, no. 200, ED2006-122, pp. 27-31, 2006年8月.
資料番号 ED2006-122 
発行日 2006-07-27 (ED) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685
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研究会情報
研究会 ED  
開催期間 2006-08-03 - 2006-08-04 
開催地(和) 大阪大学 コンベンションセンター 
開催地(英) Osaka Univ. Convention Center 
テーマ(和) 電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 ED 
会議コード 2006-08-ED 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) ダイヤモンドからの電子放出 
サブタイトル(和)  
タイトル(英)
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) ダイヤモンド / Diamond  
キーワード(2)(和/英) 電子放出 / Field Emission  
キーワード(3)(和/英) 再構成表面 / Re-constructed surface  
キーワード(4)(和/英) n型 / n type  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 鹿田 真一 / Shin-ichi Shikata / シカタ シンイチ
第1著者 所属(和/英) 独)産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
Advanced Industrial Sience and Technology (略称: AIST)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 山田 貴壽 / Takatoshi Yamada / ヤマダ タカトシ
第2著者 所属(和/英) 独)産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
Advanced Industrial Sience and Technology (略称: AIST)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) Christoph Nebel / Christoph Nebel / ネーベル クリストフ
第3著者 所属(和/英) 独)産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
Advanced Industrial Sience and Technology (略称: AIST)
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講演者 第1著者 
発表日時 2006-08-03 14:50:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 ED 
資料番号 ED2006-122 
巻番号(vol) vol.106 
号番号(no) no.200 
ページ範囲 pp.27-31 
ページ数
発行日 2006-07-27 (ED) 


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