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講演抄録/キーワード
講演名 2006-08-25 13:00
[招待講演]高分子導波路を用いた光伝送モジュール
大津茂実鈴木俊彦藤居 徹谷田和敏清水敬司圷 英一富士ゼロックス
抄録 (和) 我々は、LAMM(Large-area Advanced Micro Molding) 法と名付けた独自の高分子導波路複製法を考案し、高分子導波路を用いた光インターコネクション用デバイスの研究を行っている。LAMM法は、簡易な複製技術であるにもかかわらず伝搬損失が0.06dB/cmと光学性能に優れ、室温・大気圧下のプロセスであることから量産性に優れた高分子導波路の製造方法である。今回、LAMM法で作製した45°ミラー付きの高分子導波路をVCSELやPD素子とパッシブアライメントを用いて実装し、光インターコネクション用の4ch光送受信モジュール試作した。このモジュールは各チャンネルが3.125Gbpsで動作する。試作した光伝送モジュールは、機器間伝送など光インターコネクション用のデバイスとして十分利用できると考えている。 
(英) We are researching the optical interconnection technology using the polymer waveguide production method named LAMM(Large-area Advanced Micro Molding). This time, 4ch optical transmission modules are manufactured by connecting the polymer waveguide with VCSELs and photo diodes by a passive alignment. This module operates with each channel 3.125Gbps, and the performance is enough as the transmission devices between machines.
キーワード (和) 高分子導波路 / ソフトリソグラフィ / LAMM / VCSEL / PD / 光インターコネクション / /  
(英) Polymer Waveguide / Soft-lithography / LAMM / VCSEL / PD / Optical Interconnection / /  
文献情報 信学技報, vol. 106, no. 213, CPM2006-71, pp. 87-92, 2006年8月.
資料番号 CPM2006-71 
発行日 2006-08-17 (EMD, CPM, OPE, LQE) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685
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研究会情報
研究会 EMD CPM LQE OPE  
開催期間 2006-08-24 - 2006-08-25 
開催地(和) 千歳アルカディア・プラザ 
開催地(英) Chitose Arcadia Plaza 
テーマ(和) 光部品・電子デバイス実装技術、一般 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 CPM 
会議コード 2006-08-EMD-CPM-LQE-OPE 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 高分子導波路を用いた光伝送モジュール 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Optical Data Transmission Module Using Polymer Waveguide 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 高分子導波路 / Polymer Waveguide  
キーワード(2)(和/英) ソフトリソグラフィ / Soft-lithography  
キーワード(3)(和/英) LAMM / LAMM  
キーワード(4)(和/英) VCSEL / VCSEL  
キーワード(5)(和/英) PD / PD  
キーワード(6)(和/英) 光インターコネクション / Optical Interconnection  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 大津 茂実 / Shigemi Ohtsu / オオツ シゲミ
第1著者 所属(和/英) 富士ゼロックス株式会社 (略称: 富士ゼロックス)
Fuji Xerox Co., Ltd. (略称: Fuji Xerox)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 鈴木 俊彦 / Toshihiko Suzuki / スズキ トシヒコ
第2著者 所属(和/英) 富士ゼロックス株式会社 (略称: 富士ゼロックス)
Fuji Xerox Co., Ltd. (略称: Fuji Xerox)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 藤居 徹 / Akira Fujii / フジイ アキラ
第3著者 所属(和/英) 富士ゼロックス株式会社 (略称: 富士ゼロックス)
Fuji Xerox Co., Ltd. (略称: Fuji Xerox)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 谷田 和敏 / Kazutoshi Yatsuda / ヤツダ カズトシ
第4著者 所属(和/英) 富士ゼロックス株式会社 (略称: 富士ゼロックス)
Fuji Xerox Co., Ltd. (略称: Fuji Xerox)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 清水 敬司 / Keishi Shimizu / シミズ ケイシ
第5著者 所属(和/英) 富士ゼロックス株式会社 (略称: 富士ゼロックス)
Fuji Xerox Co., Ltd. (略称: Fuji Xerox)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 圷 英一 / Eiichi Akutsu / アクツ エイイチ
第6著者 所属(和/英) 富士ゼロックス株式会社 (略称: 富士ゼロックス)
Fuji Xerox Co., Ltd. (略称: Fuji Xerox)
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講演者 第1著者 
発表日時 2006-08-25 13:00:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 CPM 
資料番号 EMD2006-41, CPM2006-71, OPE2006-83, LQE2006-48 
巻番号(vol) vol.106 
号番号(no) no.212(EMD), no.213(CPM), no.214(OPE), no.215(LQE) 
ページ範囲 pp.87-92 
ページ数
発行日 2006-08-17 (EMD, CPM, OPE, LQE) 


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