| 講演抄録／キーワード |
| 講演名 |
2006-09-26 10:25
離散的な不純物の扱いに関する基礎的検討
○芦澤芳夫・岡 秀樹（富士通研） |
| 抄録 |
（和） |
微細化にともない原子レベルの不純物分布がデバイス特性に与えるばらつきが問題となっている．離散的な不純物のδ関数的な濃度分布は数値的に不安定なので，分布に広がりを持たせたせてドリフト拡散に取り込むことが試みられている．しかし，それが不純物散乱の描像の分解能を低下させるとの指摘もある．本研究では，離散的な不純物の扱いの基礎的検討をおこない，離散的な分布のままドリフト拡散で取り扱う方法を述べる． |
| （英） |
The density gradient approach is presented to device characteristics analysis with random dopant fluctuations. We investigate the basic characteristics for charge assignment and effective mobility to introduce density gradient approach into 3D atomistic device simulation. We demonstrate the resolution for electrostatic impurity scattering with SG SOI device structure. |
| キーワード |
（和） |
離散的不純物 / 密度勾配法 / 離散化誤差 / 原子レベル / Sanoモデル / / / |
| （英） |
Random Discrete Dopant / Density Gradient / Discretization Error / Atomistic / Sano Model / / / |
| 文献情報 |
信学技報, vol. 106, no. 256, SDM2006-161, pp. 7-12, 2006年9月. |
| 資料番号 |
SDM2006-161 |
| 発行日 |
2006-09-18 (VLD, SDM) |
| ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 |
| PDFダウンロード |
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| 研究会情報 |
| 研究会 |
SDM VLD |
| 開催期間 |
2006-09-25 - 2006-09-26 |
| 開催地（和） |
機械振興会館 |
| 開催地（英） |
Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. |
| テーマ（和） |
プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般 |
| テーマ（英） |
Process, Device, Circuit Simulation, etc. |
| 講演論文情報の詳細 |
| 申込み研究会 |
SDM |
| 会議コード |
2006-09-SDM-VLD |
| 本文の言語 |
日本語 |
| タイトル（和） |
離散的な不純物の扱いに関する基礎的検討 |
| サブタイトル（和） |
|
| タイトル（英） |
To be announced |
| サブタイトル（英） |
|
| キーワード(1)（和/英） |
離散的不純物 / Random Discrete Dopant |
| キーワード(2)（和/英） |
密度勾配法 / Density Gradient |
| キーワード(3)（和/英） |
離散化誤差 / Discretization Error |
| キーワード(4)（和/英） |
原子レベル / Atomistic |
| キーワード(5)（和/英） |
Sanoモデル / Sano Model |
| キーワード(6)（和/英） |
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| キーワード(7)（和/英） |
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| キーワード(8)（和/英） |
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| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） |
芦澤 芳夫 / Yoshio Ashizawa / アシザワ ヨシオ |
| 第1著者 所属（和/英） |
富士通研究所 (略称： 富士通研)
FUJITSU LABORATORIES LTD. (略称： FUJITSU LABORATORIES) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） |
岡 秀樹 / Hideki Oka / オカ ヒデキ |
| 第2著者 所属（和/英） |
富士通研究所 (略称： 富士通研)
FUJITSU LABORATORIES LTD. (略称： FUJITSU LABORATORIES) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） |
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| 講演者 |
第1著者 |
| 発表日時 |
2006-09-26 10:25:00 |
| 発表時間 |
25分 |
| 申込先研究会 |
SDM |
| 資料番号 |
VLD2006-40, SDM2006-161 |
| 巻番号（vol） |
vol.106 |
| 号番号（no） |
no.254(VLD), no.256(SDM) |
| ページ範囲 |
pp.7-12 |
| ページ数 |
6 |
| 発行日 |
2006-09-18 (VLD, SDM) |
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