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講演抄録/キーワード
講演名 2006-11-09 15:45
反応性スパッタ法によるAlN薄膜の作製とLD用サブマウントへの応用
塩野晃宏中久木政秀小林勲生山上朋彦林部林平信州大)・小畑元樹シチズンファインテック)・阿部克也上村喜一信州大エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2006-118
抄録 (和) (まだ登録されていません) 
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文献情報 信学技報, vol. 106, no. 336, CPM2006-118, pp. 31-35, 2006年11月.
資料番号 CPM2006-118 
発行日 2006-11-02 (CPM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2006-118

研究会情報
研究会 CPM  
開催期間 2006-11-09 - 2006-11-10 
開催地(和) 金沢大学 
開催地(英) Kanazawa Univ. 
テーマ(和) 薄膜プロセス・材料、一般 
テーマ(英) Process of Thin Film formation and Materials, etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 CPM 
会議コード 2006-11-CPM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 反応性スパッタ法によるAlN薄膜の作製とLD用サブマウントへの応用 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Reactive Sputter Deposition of AlN Film and Its Application to LD Submount 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 塩野 晃宏 / Akihiro Shiono / シオノ アキヒロ
第1著者 所属(和/英) 信州大学 (略称: 信州大)
Shinshu University (略称: Shinshu Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 中久木 政秀 / Masahide Nakakuki / ナカクキ マサヒデ
第2著者 所属(和/英) 信州大学 (略称: 信州大)
Shinshu University (略称: Shinshu Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 小林 勲生 / Isao Kobayashi / コバヤシ イサオ
第3著者 所属(和/英) 信州大学 (略称: 信州大)
Shinshu University (略称: Shinshu Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 山上 朋彦 / Tomohiko Yamakami / yamakami tomohiko
第4著者 所属(和/英) 信州大学 (略称: 信州大)
Shinshu University (略称: Shinshu Univ.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 林部 林平 / Rinpei Hayashibe / ハヤシベ リンペイ
第5著者 所属(和/英) 信州大学 (略称: 信州大)
Shinshu University (略称: Shinshu Univ.)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 小畑 元樹 / Motoki Obata / オバタ モトキ
第6著者 所属(和/英) シチズンファインテック株式会社 (略称: シチズンファインテック)
CITIZEN FINE TECH CO., LTD. (略称: CITIZEN FINE TECH)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 阿部 克也 / Katsuya Abe / アベ カツヤ
第7著者 所属(和/英) 信州大学 (略称: 信州大)
Shinshu University (略称: Shinshu Univ.)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) 上村 喜一 / Kiichi Kamimura / カミムラ キイチ
第8著者 所属(和/英) 信州大学 (略称: 信州大)
Shinshu University (略称: Shinshu Univ.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2006-11-09 15:45:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 CPM 
資料番号 CPM2006-118 
巻番号(vol) vol.106 
号番号(no) no.336 
ページ範囲 pp.31-35 
ページ数
発行日 2006-11-02 (CPM) 


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