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講演抄録/キーワード
講演名 2006-11-10 11:15
酸素イオンのスパッタ照射による酸化物薄膜の作製装置
千葉 忍金沢大/CBC)・佐々木公洋金沢大)・元木 詮CBC)・畑 朋延JST)・伊藤昭彦芝浦メカトロニクス
抄録 (和) (まだ登録されていません) 
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文献情報 信学技報, vol. 106, no. 336, CPM2006-127, pp. 81-86, 2006年11月.
資料番号 CPM2006-127 
発行日 2006-11-02 (CPM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685
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研究会情報
研究会 CPM  
開催期間 2006-11-09 - 2006-11-10 
開催地(和) 金沢大学 
開催地(英) Kanazawa Univ. 
テーマ(和) 薄膜プロセス・材料、一般 
テーマ(英) Process of Thin Film formation and Materials, etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 CPM 
会議コード 2006-11-CPM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 酸素イオンのスパッタ照射による酸化物薄膜の作製装置 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) The practical sputtering system for oxide films by oxygen ion implantation 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 千葉 忍 / Shinobu Chiba / チバ シノブ
第1著者 所属(和/英) 金沢大学/CBC株式会社 (略称: 金沢大/CBC)
Kanazawa University (略称: Kanazawa Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 佐々木 公洋 / Kimihiro Sasaki / ササキ キミヒロ
第2著者 所属(和/英) 金沢大学 (略称: 金沢大)
Kanazawa University (略称: Kanazawa Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 元木 詮 / Akira Motoki / モトキ アキラ
第3著者 所属(和/英) CBC株式会社 (略称: CBC)
CBC Campany Limited (略称: CBC Co.,Ltd)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 畑 朋延 / Tomonobu Hata / ハタ トモノブ
第4著者 所属(和/英) 科学技術振興機構 研究成果育成プラザ石川 (略称: JST)
JST Innovation Plaza Ishikawa (略称: JST)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 伊藤 昭彦 / Akihiko Ito / イトウ アキヒコ
第5著者 所属(和/英) 芝浦メカトロニクス株式会社 (略称: 芝浦メカトロニクス)
SHIBAURA MECHATRONICS Cororation (略称: SHIBAURA MECHATRONICS Corp.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2006-11-10 11:15:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 CPM 
資料番号 CPM2006-127 
巻番号(vol) vol.106 
号番号(no) no.336 
ページ範囲 pp.81-86 
ページ数
発行日 2006-11-02 (CPM) 


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