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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2007-05-25 16:30 Siの選択酸化プロセスを用いたSi細線光導波路の作製 ○飯山宏一・浅井覚詞・若島誠寛（金沢大）  LQE2007-15 |
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| 抄録 | （和） | Si細線光導波炉の伝播損失低減を目指して、選択酸化法による作製と評価について報告する。Si細線光導波路は通常、クラッドとなる部分のSiをエッチングすることにより形成されるが、本方法は、コアとなる部分のSi上部に酸化防止膜を形成し、クラッドとなる部分のSiのみ選択的に酸化する。酸化は等方的であるので、酸化防止膜のパターニング側面の荒れの影響は緩和され、伝搬損失の低減が期待できる。幅3 mmの酸化防止膜を用いて多モード光導波路を作製したところ、エッチングにより作製された同じ幅の光導波路と比べて4 dBの伝搬損失の低減が確認できた。 |
| （英） | Si photonic wire waveguides are fabricated by selective oxidation of Si. A SOI wafer on which a 3 mm-wide Si3N4 film is formed is oxidized. The Si under the Si3N4 film is not oxidized and works as a core, and the Si without the Si3N4 film is oxidized and works as a clad. The roughness at the core/clad interface is smoothed while the oxidation process, and then the propagation loss is reduced. The resultant waveguide is multimode, and the propagation loss is decreased by 4 dB as compared to the conventional fabrication process. | |
| キーワード | （和） | 光導波路 / Si細線光導波路 / 選択酸化 / 伝搬損失 / / / / |
| （英） | Optical waveguide / Si photonic wire waveguide / Selective oxidation / Propagation loss / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 107, no. 71, LQE2007-15, pp. 69-72, 2007年5月. | |
| 資料番号 | LQE2007-15 | |
| 発行日 | 2007-05-18 (LQE) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | LQE2007-15 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | LQE |
| 開催期間 | 2007-05-25 - 2007-05-25 |
| 開催地（和） | 金沢大学角間キャンパス |
| 開催地（英） | Kanazawa Univ. |
| テーマ（和） | 量子光学、非線形光学、超高速現象、レーザ基礎、及び一般 |
| テーマ（英） | Quantum optics, nonlinear optics, ultra-high speed phenomenon, etc |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | LQE |
| 会議コード | 2007-05-LQE |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | Siの選択酸化プロセスを用いたSi細線光導波路の作製 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Fabrication of Si wire waveguides by selective oxidation of Si |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 光導波路 / Optical waveguide |
| キーワード(2)（和/英） | Si細線光導波路 / Si photonic wire waveguide |
| キーワード(3)（和/英） | 選択酸化 / Selective oxidation |
| キーワード(4)（和/英） | 伝搬損失 / Propagation loss |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 飯山 宏一 / Koichi Iiyama / イイヤマ コウイチ |
| 第1著者 所属（和/英） | 金沢大学 (略称： 金沢大) Kanazawa University (略称： Kanazawa Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 浅井 覚詞 / Satoshi Asai / アサイ サトシ |
| 第2著者 所属（和/英） | 金沢大学 (略称： 金沢大) Kanazawa University (略称： Kanazawa Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 若島 誠寛 / Masahiro Wakashima / ワカシマ マサヒロ |
| 第3著者 所属（和/英） | 金沢大学 (略称： 金沢大) Kanazawa University (略称： Kanazawa Univ.) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2007-05-25 16:30:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | LQE |
| 資料番号 | LQE2007-15 |
| 巻番号（vol） | vol.107 |
| 号番号（no） | no.71 |
| ページ範囲 | pp.69-72 |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2007-05-18 (LQE) |
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