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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2007-10-05 14:25 Hfとの混晶化によるPtSiの仕事関数制御 ○大見俊一郎・高 峻・仲野雄介（東工大）  SDM2007-189 |
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| 抄録 | （和） | Hfとの混晶化によるPtSiの仕事関数制御に関する検討を行った。Pt/Hf/n-Si(100)積層構造を形成後に、窒素中700oCのアニールを行い、Hf混晶化PtSiを形成した場合、n-Siに対して、障壁高さを0.1 eV低減可能であることが分かった。さらに、シリサイドゲートへの応用を目的として、SiO2上にHf混晶化PtSiを形成し、MOSダイオードのC-V特性を評価することにより仕事関数制御に関する検討を行った。 |
| （英） | Work function modulation of PtSi by alloying with Hf was investigated. When a silicidation of Pt/Hf/n-Si(100) was carried out at 700oC in N2 ambient, 0.1 eV reduction of barrier height for electron was observed. For the application to silicide gate, a formation of PtSi alloying with Hf on SiO2/p-Si(100) was also investigated. | |
| キーワード | （和） | モノシリサイド / 混晶 / 仕事関数 / シート抵抗 / フラットバンド電圧 / / / |
| （英） | PtSi / monosilicide / alloy / work function / sheet resistance / flat-band voltage / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 107, no. 245, SDM2007-189, pp. 53-56, 2007年10月. | |
| 資料番号 | SDM2007-189 | |
| 発行日 | 2007-09-27 (SDM) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | SDM2007-189 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
| 開催期間 | 2007-10-04 - 2007-10-05 |
| 開催地（和） | 東北大学 |
| 開催地（英） | Tohoku Univ. |
| テーマ（和） | プロセス科学と新プロセス技術 |
| テーマ（英） | Process Science and Novel Process Technologies |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | SDM |
| 会議コード | 2007-10-SDM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | Hfとの混晶化によるPtSiの仕事関数制御 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Work Function Modulation of PtSi Alloying with Hf |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | モノシリサイド / PtSi |
| キーワード(2)（和/英） | 混晶 / monosilicide |
| キーワード(3)（和/英） | 仕事関数 / alloy |
| キーワード(4)（和/英） | シート抵抗 / work function |
| キーワード(5)（和/英） | フラットバンド電圧 / sheet resistance |
| キーワード(6)（和/英） | / flat-band voltage |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 大見 俊一郎 / Shun-ichiro Ohmi / オオミ シュンイチロウ |
| 第1著者 所属（和/英） | 東京工業大学 (略称： 東工大) Tokyo Institute Of Technology (略称： Tokyo Tech) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 高 峻 / Jun Gao / コウ シュン |
| 第2著者 所属（和/英） | 東京工業大学 (略称： 東工大) Tokyo Institute Of Technology (略称： Tokyo Tech) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 仲野 雄介 / Yusuke Nakano / ナカノ ユウスケ |
| 第3著者 所属（和/英） | 東京工業大学 (略称： 東工大) Tokyo Institute Of Technology (略称： Tokyo Tech) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2007-10-05 14:25:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | SDM |
| 資料番号 | SDM2007-189 |
| 巻番号（vol） | vol.107 |
| 号番号（no） | no.245 |
| ページ範囲 | pp.53-56 |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2007-09-27 (SDM) |
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