ご案内 入会して研究会活動をもっとお得に!研究会参加費・年間登録費が会員価格になります。
お知らせ 【重要】研究会参加費の支払いおよび原稿アップロード手続きの変更に関するご案内
電子情報通信学会 研究会発表申込システム
講演論文 詳細
技報閲覧サービス
[ログイン]
技報アーカイブ
 トップに戻る 前のページに戻る   [Japanese] / [English] 

講演抄録/キーワード
講演名 2007-10-05 13:10
マイクロ波CVDを用いた高移動度ボトムゲート微結晶シリコンTFTの試作
廣江昭彦寺本章伸大見忠弘東北大SDM2007-186
抄録 (和) マイクロ波(2.45GHz)励起プラズマCVDを用いて、微結晶シリコンのデポを行った。デポ条件を変えて成膜を行い、(220)優先配向の膜と(111)優先配向の膜との比較を行ったところ、(220)優先配向の膜は断面形状が緻密で、ESR(Electron Spin Resonance)によるdangling bondの密度も低い事が分かった。この(220)優先配向の膜を用いてTFTの試作を行ったところ、W/L=20/4mのbottom gate TFTにおいて、水素プラズマ処理後、移動度1.4cm2/Vsec、on/off比が5桁以上という特性を得ることに成功した。 
(英) c-Si has been deposited by microwave (2.45GHz) plasma CVD. (220) preferentially oriented film and (111) preferentially oriented film has been deposited and compared. (220) preferentially oriented film shows continuous cross sectional morphology, and has less dangling bond density compared with (111) preferentially oriented film. Bottom gate TFT has been fabricated with (220) preferentially oriented c-Si. Mobility of about 1.4cm2/Vsec and on/off ratio of more than 105 has been achieved for W/L=20/4m bottom gate transistor after hydrogen plasma treatment.
キーワード (和) マイクロ波 / プラズマCVD / 微結晶シリコン / TFT / / / /  
(英) microwave / plasma CVD / microcrystallin Si / TFT / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 107, no. 245, SDM2007-186, pp. 41-44, 2007年10月.
資料番号 SDM2007-186 
発行日 2007-09-27 (SDM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード SDM2007-186

研究会情報
研究会 SDM  
開催期間 2007-10-04 - 2007-10-05 
開催地(和) 東北大学 
開催地(英) Tohoku Univ. 
テーマ(和) プロセス科学と新プロセス技術 
テーマ(英) Process Science and Novel Process Technologies 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 SDM 
会議コード 2007-10-SDM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) マイクロ波CVDを用いた高移動度ボトムゲート微結晶シリコンTFTの試作 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) High Mobility Bottom Gate Microcrystalline Si TFT Fabricated by Microwave Plasma CVD 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) マイクロ波 / microwave  
キーワード(2)(和/英) プラズマCVD / plasma CVD  
キーワード(3)(和/英) 微結晶シリコン / microcrystallin Si  
キーワード(4)(和/英) TFT / TFT  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 廣江 昭彦 / Akihiko Hiroe / ヒロエ アキヒコ
第1著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 寺本 章伸 / Akinobu Teramoto / テラモト アキノブ
第2著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 大見 忠弘 / Tadahiro Ohmi / オオミ タダヒロ
第3著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第4著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第5著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第6著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第7著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第8著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第9著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第10著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第11著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第12著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第13著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第14著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第14著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第15著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第16著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第17著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第18著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第18著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第19著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第19著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第20著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第20著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第21著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第21著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第22著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第22著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第23著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第23著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第24著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第24著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第25著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第25著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第26著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第26著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第27著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第27著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第28著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第28著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第29著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第29著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第30著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第30著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第31著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第31著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第32著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第32著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第33著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第33著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第34著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第34著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第35著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第35著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第36著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第36著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
講演者 第1著者 
発表日時 2007-10-05 13:10:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 SDM 
資料番号 SDM2007-186 
巻番号(vol) vol.107 
号番号(no) no.245 
ページ範囲 pp.41-44 
ページ数
発行日 2007-09-27 (SDM) 


[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]


IEICE / 電子情報通信学会