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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2007-10-26 13:00 ［招待講演］ナノリソグラフィーのためのブロック共重合体自己組織化薄膜の構造制御 ○吉田博史（日立）・赤坂 哲・陳 楓・竹中幹人・長谷川博一（京大）  OME2007-43 |
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| 抄録 | （和） | ナノリソグラフィー技術として、ブロック共重合体の自己組織化現象により発現する数十ナノメーターオーダーのミクロドメインをエッチングマスクとして利用する試みが注目されている。ミクロドメインをエッチングマスクとして適用する場合、適度なアスペクト比を有するシリンダー状ミクロドメインが基板に対して垂直に配向した状態で規則正しく整列した構造を用いることが望ましい。本報告ではシリンダー状ミクロドメインの配向制御法について概説するとともに、ブロック共重合体にホモポリマーあるいは分子量の異なるブロック共重合体を混合することによりシリンダー状ミクロドメインの垂直配向が得られるという現象について報告する |
| （英） | It has been established that thin film of block copolymers can be used as templates for nano-size devices fabrication, referred as block copolymer lithography. However, realizing the full potential in thin film applications requires controlling ordering and orientation of microdomain, so as to tailor the continuous thin films into desired patterns. In this report, attempts to control the domain orientation are reviewed. Particularly, we show a simple route to control perpendicular orientation of cylindrical domains in thin film via binary blending asymmetric polystyrene-block- poly(methyl methacrylate). | |
| キーワード | （和） | 自己組織化 / 高分子ブロック共重合体 / リソグラフィー / / / / / |
| （英） | Self-assembly / Block copolymer / Lithography / / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 107, no. 292, OME2007-43, pp. 1-6, 2007年10月. | |
| 資料番号 | OME2007-43 | |
| 発行日 | 2007-10-19 (OME) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | OME2007-43 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | OME |
| 開催期間 | 2007-10-26 - 2007-10-26 |
| 開催地（和） | 機械振興会館 |
| 開催地（英） | Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. |
| テーマ（和） | 自己組織化技術、有機材料一般 |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | OME |
| 会議コード | 2007-10-OME |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | ナノリソグラフィーのためのブロック共重合体自己組織化薄膜の構造制御 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Tailoring microdomain orientation in block copolymer thin films for lithographic application |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 自己組織化 / Self-assembly |
| キーワード(2)（和/英） | 高分子ブロック共重合体 / Block copolymer |
| キーワード(3)（和/英） | リソグラフィー / Lithography |
| キーワード(4)（和/英） | / |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 吉田 博史 / Hiroshi Yoshida / ヨシダ ヒロシ |
| 第1著者 所属（和/英） | 日立製作所 (略称： 日立) Hitachi Ltd. (略称： Hitachi) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 赤坂 哲 / Satoshi Akasaka / アカサカ サトシ |
| 第2著者 所属（和/英） | 京都大学 (略称： 京大) Kyoto University (略称： Kyoto Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 陳 楓 / Feng Chen / チェン フェン |
| 第3著者 所属（和/英） | 京都大学 (略称： 京大) Kyoto University (略称： Kyoto Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 竹中 幹人 / Mikihito Takenaka / タケナカ ミキヒト |
| 第4著者 所属（和/英） | 京都大学 (略称： 京大) Kyoto University (略称： Kyoto Univ.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 長谷川 博一 / Hirokazu Hasegawa / ハセガワ ヒロカズ |
| 第5著者 所属（和/英） | 京都大学 (略称： 京大) Kyoto University (略称： Kyoto Univ.) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2007-10-26 13:00:00 |
| 発表時間 | 45分 |
| 申込先研究会 | OME |
| 資料番号 | OME2007-43 |
| 巻番号（vol） | vol.107 |
| 号番号（no） | no.292 |
| ページ範囲 | pp.1-6 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2007-10-19 (OME) |
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