講演抄録/キーワード |
講演名 |
2008-04-11 11:25
UV/可視ラマン分光法によるレーザー結晶化ポリシリコン薄膜の応力・結晶性の評価 ○掛村康人・小瀬村大亮・小椋厚志(明大)・野口 隆(琉球大) SDM2008-6 OME2008-6 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2008-6 OME2008-6 |
抄録 |
(和) |
低温ポリシリコン(LTPS)薄膜はシステムオングラス実現のためのキーマテリアルである。我々は、高精度・高空間分解能をもつラマン分光器を用いて種々の条件で作製されたLTPS薄膜の応力及び結晶性の詳細評価を行った。実験では、励起光に浸入長の異なる2波長 [λ=364 nm(浸入長5 nm), 532 nm(浸入長400nm)] を用いた試料の表および裏面からの測定で、最表面、基板界面、および膜全体の平均的な情報を分離したラマン分光解析を行った。結果、LTPSは膜表面、膜内部、界面付近で応力・結晶性が異なる分布を持つことがわかり、この分布はアニール条件で異なることがわかった。 |
(英) |
Low temperature polysilicon (LTPS) thin film is a key material for the systems-on-glass achievement. Depth and in-plane distributions of the crystal qualities in low-temperature polycrystalline Si (LTPS) films fabricated by various annealing conditions with laser annealing were evaluated by high resolution Raman spectroscopy with UV and visible excitation laser sources from the front and back surfaces. Crystal quality and residual stress measured by the Raman peak shift and FWHM significantly depended on the annealing conditions. The depth profile was also unique to each sample. |
キーワード |
(和) |
低温ポリシリコン / LTPS / システムオングラス / SoG / UVラマン / 擬似線状光源 / / |
(英) |
Low temperature polysilicon / LTPS / systems-on-glass / UV-Raman / Quasi-line excitation sources / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 108, no. 1, SDM2008-6, pp. 27-32, 2008年4月. |
資料番号 |
SDM2008-6 |
発行日 |
2008-04-04 (SDM, OME) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
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