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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2008-06-13 16:10 SPM洗浄法におけるレジスト剥離能力の劣化と電解硫酸液を用いたレジスト剥離技術の実証 ○永井達夫・山川晴義・内田 稔・大津 徹・池宮範人（栗田工業）  ED2008-29 |
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| 抄録 | （和） | SPM洗浄法は使用に伴いレジスト剥離性能が低下することが知られている．その原因が硫酸濃度の低下にあることを理論的に解明した．それに対し，電解硫酸法では，硫酸濃度及び電解で生成する過硫酸濃度を一定に保つことができるため，経時劣化することがなくレジスト剥離性能を長期間維持することができる．この電解硫酸液を用いて，Asイオンドーズ量1E14レジストを塗布した300mmパターンウエハを完全にレジスト剥離できることを実証した． |
| （英） | It is known that resist removal capability of SPM gradually deteriorates during the stripping process. Theoretical explanation of this phenomenon has been tried and was concluded that the decrease in the concentration of sulfuric acid caused it. Contrary to this, in the case of electrolyzed sulfuric acid method, both concentrations of sulfuric acid and of peroxodisulfuric acid produced by electrolysis can be kept constant, so that the resist removal capability can be maintained for a long term without changing the liquid. It is proved that resist patterned on φ300mm wafers which is injected with 1E14 of As and can be removed using electrolyzed sulfuric acid solution without ashing process. | |
| キーワード | （和） | 電解硫酸 / レジスト剥離 / SPM / アッシングレス / / / / |
| （英） | Electrolyzed Sulfuric Acid / Resist Removal / SPM / Ashingless / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 108, no. 87, ED2008-29, pp. 41-46, 2008年6月. | |
| 資料番号 | ED2008-29 | |
| 発行日 | 2008-06-06 (ED) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | ED2008-29 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | ED |
| 開催期間 | 2008-06-13 - 2008-06-14 |
| 開催地（和） | 金沢大学 角間キャンパス |
| 開催地（英） | Kanazawa University |
| テーマ（和） | 半導体のプロセス・デバイス（表面、界面、信頼性、一般） |
| テーマ（英） | Process and device technology od semiconductors (surface, interface, reliability, etc.) |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | ED |
| 会議コード | 2008-06-ED |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | SPM洗浄法におけるレジスト剥離能力の劣化と電解硫酸液を用いたレジスト剥離技術の実証 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Study on Deterioration of Resist Removal Efficiency in SPM, and Experimental Proof of Ashingless Resist Removal Using Electrolyzed Sulfuric Acid Solution |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 電解硫酸 / Electrolyzed Sulfuric Acid |
| キーワード(2)（和/英） | レジスト剥離 / Resist Removal |
| キーワード(3)（和/英） | SPM / SPM |
| キーワード(4)（和/英） | アッシングレス / Ashingless |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 永井 達夫 / Tatsuo Nagai / ナガイ タツオ |
| 第1著者 所属（和/英） | 栗田工業 (略称： 栗田工業) Kurita Water Industries Ltd. (略称： Kurita) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 山川 晴義 / Haruyoshi Yamakawa / ヤマカワ ハルヨシ |
| 第2著者 所属（和/英） | 栗田工業 (略称： 栗田工業) Kurita Water Industries Ltd. (略称： Kurita) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 内田 稔 / Minoru Uchida / ウチダ ミノル |
| 第3著者 所属（和/英） | 栗田工業 (略称： 栗田工業) Kurita Water Industries Ltd. (略称： Kurita) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 大津 徹 / Toru Otsu / オオツ トオル |
| 第4著者 所属（和/英） | 栗田工業 (略称： 栗田工業) Kurita Water Industries Ltd. (略称： Kurita) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 池宮 範人 / Norihito Ikemiya / イケミヤ ノリヒト |
| 第5著者 所属（和/英） | 栗田工業 (略称： 栗田工業) Kurita Water Industries Ltd. (略称： Kurita) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2008-06-13 16:10:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | ED |
| 資料番号 | ED2008-29 |
| 巻番号（vol） | vol.108 |
| 号番号（no） | no.87 |
| ページ範囲 | pp.41-46 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2008-06-06 (ED) |
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