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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2008-08-04 14:50 交互積層法によるMg-Ni薄膜の作製 ○清水英彦・平田 真・岡田智弘・岩野春男・川上貴浩（新潟大）  CPM2008-43 エレソ技報アーカイブへのリンク：CPM2008-43 |
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| 抄録 | （和） | 本研究では，マグネトロンスパッタ(MS)法及びスパッタビーム堆積(SBD)法を用いてMg膜とNi膜を交互に積層する方法により，Mg-Ni薄膜の微細構造の制御方法の検討をするとともに，この方法により作製された薄膜の基礎的な特性を明らかにすることを目的に検討を行った。その結果，MS法により室温で作製された膜からは，Mg(002)面からの回折ピークが顕著に観測されたのに対し，SBD法により室温で堆積された膜からはNi(111)面からの回折ピークは観測された。室温で作製した場合，MS法に比べSBD法により作製された膜の方が，Mg膜とNi膜の界面がより急峻であった。希釈された水素雰囲気中での透過率は，SBD法により作製された膜よりMS法により作製された膜の方が高くなった。 |
| （英） | Mg-Ni films were attempted by alternation layer deposition of Mg film and Ni film using magnetron spattering (MS) and sputter-beam deposition (SBD) method. As a result, The diffraction peak from the Mg(002) plane was observed in the films deposited by MS method, whereas the diffraction peak from the Ni(111) plane was observed in the films deposited by SBD method. When films deposited at room temperature, the interface between the Mg and the Ni of the film deposited by SBD method was clearer than that of the film made by the MS method. The transmittance in the diluted hydrogen atmosphere of the films deposited by MS method was higher than that of the films made by SBD method. | |
| キーワード | （和） | Mg-Ni膜 / 交互積層 / 調光ミラー / マグネトロンスパッタ法 / スパッタビーム堆積法 / / / |
| （英） | Mg-Ni Film / Alternate Layer Deposition / Switching mirror / Magnetron Spattering Method / putter-Beam Deposition Method / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 108, no. 178, CPM2008-43, pp. 9-14, 2008年8月. | |
| 資料番号 | CPM2008-43 | |
| 発行日 | 2008-07-28 (CPM) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | CPM2008-43 エレソ技報アーカイブへのリンク：CPM2008-43 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
| 開催期間 | 2008-08-04 - 2008-08-04 |
| 開催地（和） | 室蘭工業大学 |
| 開催地（英） | Muroran Institute of Technology |
| テーマ（和） | 電子部品・材料，一般 |
| テーマ（英） | Electronic Component Parts and Materials, etc. |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | CPM |
| 会議コード | 2008-08-CPM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 交互積層法によるMg-Ni薄膜の作製 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Preparation of Mg-Ni thin films by Alternation Layer Deposition Method |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | Mg-Ni膜 / Mg-Ni Film |
| キーワード(2)（和/英） | 交互積層 / Alternate Layer Deposition |
| キーワード(3)（和/英） | 調光ミラー / Switching mirror |
| キーワード(4)（和/英） | マグネトロンスパッタ法 / Magnetron Spattering Method |
| キーワード(5)（和/英） | スパッタビーム堆積法 / putter-Beam Deposition Method |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 清水 英彦 / Hidehiko Shimizu / シミズ ヒデヒコ |
| 第1著者 所属（和/英） | 新潟大学 (略称： 新潟大) Niigata University (略称： Niigata Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 平田 真 / Makoto Hirata / ヒラタ マコト |
| 第2著者 所属（和/英） | 新潟大学 (略称： 新潟大) Niigata University (略称： Niigata Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 岡田 智弘 / Tomohiro Okada / オカダ トモヒロ |
| 第3著者 所属（和/英） | 新潟大学 (略称： 新潟大) Niigata University (略称： Niigata Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 岩野 春男 / Haruo Iwano / イワノ ハルオ |
| 第4著者 所属（和/英） | 新潟大学 (略称： 新潟大) Niigata University (略称： Niigata Univ.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 川上 貴浩 / Takahiro Kawakami / カワカミ タカヒロ |
| 第5著者 所属（和/英） | 新潟大学 (略称： 新潟大) Niigata University (略称： Niigata Univ.) |
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| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2008-08-04 14:50:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | CPM |
| 資料番号 | CPM2008-43 |
| 巻番号（vol） | vol.108 |
| 号番号（no） | no.178 |
| ページ範囲 | pp.9-14 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2008-07-28 (CPM) |
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