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講演抄録/キーワード
講演名 2008-08-04 15:25
ヘテロ原子含有置換ポリアセチレンの有機トランジスタへの応用
今村哲也馬渡康輝福田 永田畑昌祥室蘭工大CPM2008-44
抄録 (和) ラセン構造を持つ置換ポリアセチレンの有機トランジスタへの応用を試みた。置換ポリアセチレンはRh錯体触媒による重合反応により得られ、有機溶媒に可溶であることからスピンコート法により成膜した。側鎖にチオフェン環を有するポリ3-エチニルチオフェン(P3ET)はp型半導体として動作し、最大で6.7×10-3cm2/Vsのキャリア移動度を有する性能が得られた。 
(英) Organic thin film transistors (OTFTs) using substituted polyacetylenes which have a helical form were fabricated. Substituted polyacetylenes soluble to various organic solvents were obtained using a rhodium complex as the stereoregular polymerization catalyst of the substituted acetylenes. The polymer thin films were formed by spin coating method. Poly(3-ethynylthiophene) bearing a thiophene ring as the side-chain is operated at p-type semiconductor and the maximum field-effect mobility of the P3ET OTFT is estimated at 6.7×10-3cm2/Vs.
キーワード (和) 有機トランジスタ / 置換ポリアセチレン / Rh錯体触媒 / ポリ2-エチニルチオフェン / ポリ3-エチニルチオフェン / / /  
(英) Organic Thin Film Transistor / Substituted Polyacetylene / Rh Complex Catalyst / Poly(2-ethynylthiophene) / Poly(3-ethynylthiophene) / / /  
文献情報 信学技報, vol. 108, no. 178, CPM2008-44, pp. 15-18, 2008年8月.
資料番号 CPM2008-44 
発行日 2008-07-28 (CPM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
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PDFダウンロード CPM2008-44

研究会情報
研究会 CPM  
開催期間 2008-08-04 - 2008-08-04 
開催地(和) 室蘭工業大学 
開催地(英) Muroran Institute of Technology 
テーマ(和) 電子部品・材料,一般 
テーマ(英) Electronic Component Parts and Materials, etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 CPM 
会議コード 2008-08-CPM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) ヘテロ原子含有置換ポリアセチレンの有機トランジスタへの応用 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Organic Thin Film Transistor with Substituted Polyacetylenes containing Hetero Atoms 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 有機トランジスタ / Organic Thin Film Transistor  
キーワード(2)(和/英) 置換ポリアセチレン / Substituted Polyacetylene  
キーワード(3)(和/英) Rh錯体触媒 / Rh Complex Catalyst  
キーワード(4)(和/英) ポリ2-エチニルチオフェン / Poly(2-ethynylthiophene)  
キーワード(5)(和/英) ポリ3-エチニルチオフェン / Poly(3-ethynylthiophene)  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 今村 哲也 / Tetsuya Imamura / イマムラ テツヤ
第1著者 所属(和/英) 室蘭工業大学 (略称: 室蘭工大)
Muroran Institute of Technology (略称: Muroran Inst. Technol)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 馬渡 康輝 / Yasuteru Mawatari / マワタリ ヤステル
第2著者 所属(和/英) 室蘭工業大学 (略称: 室蘭工大)
Muroran Institute of Technology (略称: Muroran Inst. Technol)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 福田 永 / Hisashi Fukuda / フクダ ヒサシ
第3著者 所属(和/英) 室蘭工業大学 (略称: 室蘭工大)
Muroran Institute of Technology (略称: Muroran Inst. Technol)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 田畑 昌祥 / Masayoshi Tabata / タバタ マサヨシ
第4著者 所属(和/英) 室蘭工業大学 (略称: 室蘭工大)
Muroran Institute of Technology (略称: Muroran Inst. Technol)
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講演者 第1著者 
発表日時 2008-08-04 15:25:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 CPM 
資料番号 CPM2008-44 
巻番号(vol) vol.108 
号番号(no) no.178 
ページ範囲 pp.15-18 
ページ数
発行日 2008-07-28 (CPM) 


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