講演抄録/キーワード |
講演名 |
2008-10-09 14:30
エタノール添加スラリーを用いたCMPによるCWレーザ結晶化Si薄膜の平坦化 ○沼田雅之・黒木伸一郎・藤井俊太朗・小谷光司・伊藤隆司(東北大) SDM2008-151 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2008-151 |
抄録 |
(和) |
CWレーザアニールはガラス基板上でグレインサイズ20×2 µm2の大粒径poly-Si薄膜を得ることができ、TFTの高性能化に有効である。しかし、この結晶化によりSi薄膜表面に数十nmの凹凸が形成される。これを平坦化するために、化学的機械的平坦化を検討したので報告する。 |
(英) |
CW laser crystallization of amorphous silicon films is a promising method to realize thin film transistor with high performance. However, the laser crystallized silicon films have large surface roughness. In this paper, a chemical mechanical polishing of laser crystallized Si films was reported. |
キーワード |
(和) |
CMP / レーザ結晶化 / TFT / / / / / |
(英) |
CMP / laser crystallization / TFT / / / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 108, no. 236, SDM2008-151, pp. 13-16, 2008年10月. |
資料番号 |
SDM2008-151 |
発行日 |
2008-10-02 (SDM) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
PDFダウンロード |
SDM2008-151 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2008-151 |
研究会情報 |
研究会 |
SDM |
開催期間 |
2008-10-09 - 2008-10-10 |
開催地(和) |
東北大学 |
開催地(英) |
Tohoku Univ. |
テーマ(和) |
プロセス科学と新プロセス技術 |
テーマ(英) |
Process Science and Novel Process Technologies |
講演論文情報の詳細 |
申込み研究会 |
SDM |
会議コード |
2008-10-SDM |
本文の言語 |
日本語 |
タイトル(和) |
エタノール添加スラリーを用いたCMPによるCWレーザ結晶化Si薄膜の平坦化 |
サブタイトル(和) |
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タイトル(英) |
Planarization of CW laser crystallized Si thin films by chemical mechanical polishing using slurry with ethyl alcohol |
サブタイトル(英) |
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キーワード(1)(和/英) |
CMP / CMP |
キーワード(2)(和/英) |
レーザ結晶化 / laser crystallization |
キーワード(3)(和/英) |
TFT / TFT |
キーワード(4)(和/英) |
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キーワード(5)(和/英) |
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キーワード(6)(和/英) |
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キーワード(7)(和/英) |
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キーワード(8)(和/英) |
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
沼田 雅之 / Masayuki Numata / ヌマタ マサユキ |
第1著者 所属(和/英) |
東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.) |
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
黒木 伸一郎 / Shin-Ichiro Kuroki / クロキ シンイチロウ |
第2著者 所属(和/英) |
東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.) |
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
藤井 俊太朗 / Shuntaro Fujii / フジイ シュンタロウ |
第3著者 所属(和/英) |
東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.) |
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
小谷 光司 / Koji Kotani / コタニ コウジ |
第4著者 所属(和/英) |
東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.) |
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) |
伊藤 隆司 / Takashi Ito / イトウ タカシ |
第5著者 所属(和/英) |
東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.) |
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第7著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第10著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第11著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第12著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第13著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第14著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第15著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第16著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第18著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第19著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第20著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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講演者 |
第1著者 |
発表日時 |
2008-10-09 14:30:00 |
発表時間 |
30分 |
申込先研究会 |
SDM |
資料番号 |
SDM2008-151 |
巻番号(vol) |
vol.108 |
号番号(no) |
no.236 |
ページ範囲 |
pp.13-16 |
ページ数 |
4 |
発行日 |
2008-10-02 (SDM) |