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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2008-10-30 14:55 SBD法を用いたAZO薄膜作製における特性の検討 ○本間拓也・佐藤 薫・下村健晴・邵 力捷・清水英彦・岩野春男（新潟大）・星 陽一（東京工芸大）  CPM2008-79 エレソ技報アーカイブへのリンク：CPM2008-79 |
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| 抄録 | （和） | マグネトロンスパッタ（MS）法によりZnO 系透明導電膜を作製する場合の膜作製プロセスに起因する問題点を明らかにするために，MS 法及びスパッタビーム堆積（SBD）法によりAZO 薄膜を作製し，検討を行った。その結果，X 線回折測定結果により，MS 法及びSBD 法ともにエロージョン上付近よりターゲット中心軸側では結晶性が悪く，エロージョン上付近より外側では結晶性が良くなることが分かった。膜組成に関しては，作製方法，スパッタガス圧により，膜面内分布が大きく異なった。また，膜面内の抵抗率の変化は，膜内部の結晶性と関係があると考えられた。 |
| （英） | In order to clarify a problem in sputtering deposition process when zinc oxide films of transparent conductive oxides were deposited by magnetron sputtering (MS) method, we examined properties of AZO films deposited by MS method and sputter-beam deposition (SBD) method. As a result, the films of inside from position of substrate above the erosion deposited by MS and SBD method had bad crystallinity whereas the films of outside from position of substrate above the erosion deposited by MS and SBD method had good crystallinity. The composition of the film in a inplane direction was different by a depositon method and sputtering gas pressure. It was thought that the change in the resistivity in the film was related to crystalline in the film. | |
| キーワード | （和） | ZnO系透明導電膜 / 抵抗率 / スパッタビーム堆積法 / エロージョン / / / / |
| （英） | ZnO thin films / resistivity / Sputter-Beam Deposition Method / Erosion / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 108, no. 269, CPM2008-79, pp. 23-28, 2008年10月. | |
| 資料番号 | CPM2008-79 | |
| 発行日 | 2008-10-23 (CPM) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | CPM2008-79 エレソ技報アーカイブへのリンク：CPM2008-79 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
| 開催期間 | 2008-10-30 - 2008-10-31 |
| 開催地（和） | 新潟大学 |
| 開催地（英） | Niigata Univ. |
| テーマ（和） | 薄膜プロセス・材料、一般 |
| テーマ（英） | Process of Thin Film formation and Materials, etc. |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | CPM |
| 会議コード | 2008-10-CPM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | SBD法を用いたAZO薄膜作製における特性の検討 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Characteristic of AZO Thin Films Deposited by SBD Method |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | ZnO系透明導電膜 / ZnO thin films |
| キーワード(2)（和/英） | 抵抗率 / resistivity |
| キーワード(3)（和/英） | スパッタビーム堆積法 / Sputter-Beam Deposition Method |
| キーワード(4)（和/英） | エロージョン / Erosion |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 本間 拓也 / Takuya Honma / ホンマ タクヤ |
| 第1著者 所属（和/英） | 新潟大学 (略称： 新潟大) Niigata University (略称： Niigata Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 佐藤 薫 / Kaoru Satou / サトウ カオル |
| 第2著者 所属（和/英） | 新潟大学 (略称： 新潟大) Niigata University (略称： Niigata Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 下村 健晴 / Takeharu Shimomura / シモムラ タケハル |
| 第3著者 所属（和/英） | 新潟大学 (略称： 新潟大) Niigata University (略称： Niigata Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 邵 力捷 / Rijin Syou / ショウ リジン |
| 第4著者 所属（和/英） | 新潟大学 (略称： 新潟大) Niigata University (略称： Niigata Univ.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 清水 英彦 / Hidehiko Shimizu / シミズ ヒデヒコ |
| 第5著者 所属（和/英） | 新潟大学 (略称： 新潟大) Niigata University (略称： Niigata Univ.) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 岩野 春男 / Haruo Iwano / イワノ ハルオ |
| 第6著者 所属（和/英） | 新潟大学 (略称： 新潟大) Niigata University (略称： Niigata Univ.) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） | 星 陽一 / Yoichi Hoshi / ホシ ヨウイチ |
| 第7著者 所属（和/英） | 東京工芸大学 (略称： 東京工芸大) Tokyo Polytechnio University (略称： Tokyo Polytechnio Univ.) |
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| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2008-10-30 14:55:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | CPM |
| 資料番号 | CPM2008-79 |
| 巻番号（vol） | vol.108 |
| 号番号（no） | no.269 |
| ページ範囲 | pp.23-28 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2008-10-23 (CPM) |
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