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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2009-05-14 15:25 RFマグネトロンスパッタリング法によるTiO2薄膜の生成と光触媒特性 ○伊藤達也・遠藤立弥・以西雅章（静岡大）・境 哲也・星 陽一（東京工芸大）  ED2009-22 CPM2009-12 SDM2009-12 |
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| 抄録 | （和） | 本研究では,RFマグネトロンスパッタリング法によるTiO2薄膜の低温生成について検討した.RFマグネトロンスパッタリング法により生成した薄膜は,非加熱基板上にアナターゼ結晶を形成させることができた.RFマグネトロンスパッタリング法により生成した薄膜の光励起親水特性は,UV照射後30分で超親水状態を示した.有機物分解特性は,スパッタリング圧力10Paで生成した薄膜の方が5Paで生成した薄膜よりも高い活性指数を示した.また,非加熱基板上でも,高い有機物分解活性指数を示す薄膜が得られることが分かった. |
| （英） | Low-temperature preparation of the TiO2 thin films was examined by using a RF magnetron sputtering method was examined. The thin film generated with the RF magnetron sputtering method. TiO2 films of anatase structure could be prepared on the non-heated glass substrates. The photocatalytic properties of films were significant in the films prepared under the sputtering atmosphere of 10 Pa rather than 5 Pa. For the organic matter resolution characteristic, both anatase and rutile crystal structures showed high activities. For the optical excitation hydrophilicity characteristic, the anatase crystal was decent. | |
| キーワード | （和） | TiO2薄膜 / RFマグネトロンスパッタリング / 光触媒 / / / / / |
| （英） | TiO2 thin film / RF magnetron sputtering / Photocatalyst / / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 109, no. 24, CPM2009-12, pp. 21-24, 2009年5月. | |
| 資料番号 | CPM2009-12 | |
| 発行日 | 2009-05-07 (ED, CPM, SDM) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | ED2009-22 CPM2009-12 SDM2009-12 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | ED CPM SDM |
| 開催期間 | 2009-05-14 - 2009-05-15 |
| 開催地（和） | 豊橋技科大サテライトオフィス |
| 開催地（英） | Satellite Office, Toyohashi Univ. of Technology |
| テーマ（和） | 結晶成長，評価及びデバイス（化合物，Si，SiGe，電子・光材料） |
| テーマ（英） | Crystal growth, evaluation and device (Compound, Si, SiGe, Electronic and light emitting materials） |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | CPM |
| 会議コード | 2009-05-ED-CPM-SDM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | RFマグネトロンスパッタリング法によるTiO2薄膜の生成と光触媒特性 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Preparation of TiO2 thin films by RF magnetron sputtering method and their photocatalytic properties |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | TiO2薄膜 / TiO2 thin film |
| キーワード(2)（和/英） | RFマグネトロンスパッタリング / RF magnetron sputtering |
| キーワード(3)（和/英） | 光触媒 / Photocatalyst |
| キーワード(4)（和/英） | / |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 伊藤 達也 / Tatsuya Ito / イトウ タツヤ |
| 第1著者 所属（和/英） | 静岡大学 (略称： 静岡大) Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 遠藤 立弥 / Tatsuya Endo / エンドウ タツヤ |
| 第2著者 所属（和/英） | 静岡大学 (略称： 静岡大) Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 以西 雅章 / Masaaki Isai / イサイ マサアキ |
| 第3著者 所属（和/英） | 静岡大学 (略称： 静岡大) Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 境 哲也 / Tetsuya Sakai / サカイ テツヤ |
| 第4著者 所属（和/英） | 東京工芸大学 (略称： 東京工芸大) Tokyo Polytechnic University (略称： Tokyo Polytech. Univ.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 星 陽一 / Yoichi Hoshi / ホシ ヨウイチ |
| 第5著者 所属（和/英） | 東京工芸大学 (略称： 東京工芸大) Tokyo Polytechnic University (略称： Tokyo Polytech. Univ.) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2009-05-14 15:25:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | CPM |
| 資料番号 | ED2009-22, CPM2009-12, SDM2009-12 |
| 巻番号（vol） | vol.109 |
| 号番号（no） | no.23(ED), no.24(CPM), no.25(SDM) |
| ページ範囲 | pp.21-24 |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2009-05-07 (ED, CPM, SDM) |
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