講演抄録/キーワード |
講演名 |
2009-06-11 13:50
導波路管型高周波超音波洗浄機によるCMP後洗浄 ○鈴木一成(カイジョー/芝浦工大)・潘 毅・岡野勝一・副島潤一郎(カイジョー)・小池義和(芝浦工大) ED2009-37 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2009-37 |
抄録 |
(和) |
半導体枚葉洗浄において,石英導波路管を伝搬体とした新しい超音波洗浄機用振動子を提案する.中実棒を伝搬体とした場合,超音波は縦振動で伝搬し,定在波による振動分布が生じる.一方で導波路管壁での超音波は横(屈曲)振動で伝搬し,進行波成分が増す.また,導波路管壁は伝搬液を経由した音源振動により間接的に駆動する,導波路管壁面振動には伝搬液内で生成された高調波成分が観測される.枚葉スピン洗浄機に導波路管型振動子を搭載し,CMP 後洗浄での微粒子除去率(PRE: Particle removal efficiency)との関連を評価した. |
(英) |
At single wafer processing, we proposed novel ultrasonic cleaning equipment using the waveguide tube made of quartz. At conventional rod type equipment, ultrasonic waves propagate as longitudinal wave and it form standing wave. On the other hand, at waveguide type equipment, ultrasonic waves propagate as transverse wave and it form traveling wave. Hence,waveguide wall vibrated by sound source through the propagation liquid. Harmonics was confirmed in vibration of the
waveguide wall, and harmonics might be generated in propagation liquid. Particle removal efficiency (PRE) was evaluated at post–CMP cleaning, using waveguide and rod type equipment installed in the spin cleaner. |
キーワード |
(和) |
超音波洗浄 / CMP 後洗浄 / 導波路モード / LDV 測定 / / / / |
(英) |
Ultrasonic Cleaning / CMP Cleaning / Waveguide mode / LDV Measurement / / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 109, no. 81, ED2009-37, pp. 7-10, 2009年6月. |
資料番号 |
ED2009-37 |
発行日 |
2009-06-04 (ED) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
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