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講演抄録/キーワード
講演名 2009-06-24 14:30
[招待講演]Theoretical study on graphene field-effect transistors
Eiichi SanoHokkaido Univ./JST)・Taiichi OtsujiTohoku Univ../JSTED2009-62 SDM2009-57 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2009-62 SDM2009-57
抄録 (和) Graphene is one of the most attractive materials for“beyond CMOS” electronics. We investigate graphene-layer compositions suitable for the channel in graphene field-effect transistors (GFETs) in terms of the energy band structure and charge controllability. We examine three major methods of opening a bandgap in graphene. We then compare the threshold voltage and subthreshold-slope characteristics as measures of short-channel effects for GFETs, where graphene is modeled as a narrow-gap semiconductor based on the band consideration, with those for ultra-thin-body silicon-on-insulator (UTB-SOI) MOSFETs using a drift-diffusion-based simulator. The intrinsic delay times for GFETs are also compared with those for UTB-SOI MOSFETs. 
(英) Graphene is one of the most attractive materials for“beyond CMOS” electronics. We investigate graphene-layer compositions suitable for the channel in graphene field-effect transistors (GFETs) in terms of the energy band structure and charge controllability. We examine three major methods of opening a bandgap in graphene. We then compare the threshold voltage and subthreshold-slope characteristics as measures of short-channel effects for GFETs, where graphene is modeled as a narrow-gap semiconductor based on the band consideration, with those for ultra-thin-body silicon-on-insulator (UTB-SOI) MOSFETs using a drift-diffusion-based simulator. The intrinsic delay times for GFETs are also compared with those for UTB-SOI MOSFETs.
キーワード (和) グラフェン / エネルギーバンド構造 / 有効質量 / MOSFET / SOI / 遅延 / /  
(英) Graphene / Energy band structure / Effective mass / MOSFET / SOI / Delay / /  
文献情報 信学技報, vol. 109, no. 97, ED2009-62, pp. 53-58, 2009年6月.
資料番号 ED2009-62 
発行日 2009-06-17 (ED, SDM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード ED2009-62 SDM2009-57 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2009-62 SDM2009-57

研究会情報
研究会 SDM ED  
開催期間 2009-06-24 - 2009-06-26 
開催地(和) 海雲台グランドホテル(釜山、韓国) 
開催地(英) Haeundae Grand Hotel, Busan, Korea 
テーマ(和) 第17回先端半導体デバイスの基礎と応用に関するアジア・太平洋ワークショップ(AWAD2009) 
テーマ(英) 2009 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 ED 
会議コード 2009-06-SDM-ED 
本文の言語 英語 
タイトル(和)  
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Theoretical study on graphene field-effect transistors 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) グラフェン / Graphene  
キーワード(2)(和/英) エネルギーバンド構造 / Energy band structure  
キーワード(3)(和/英) 有効質量 / Effective mass  
キーワード(4)(和/英) MOSFET / MOSFET  
キーワード(5)(和/英) SOI / SOI  
キーワード(6)(和/英) 遅延 / Delay  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 佐野 栄一 / Eiichi Sano / サノ エイイチ
第1著者 所属(和/英) 北海道大学/JST (略称: 北大/JST)
Hokkaido University/Japan Science and Technology Agency (略称: Hokkaido Univ./JST)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 尾辻 泰一 / Taiichi Otsuji / オツジ タイイチ
第2著者 所属(和/英) 東北大学/JST (略称: 東北大/JST)
Tohoku University/Japan Science and Technology Agency (略称: Tohoku Univ../JST)
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講演者 第1著者 
発表日時 2009-06-24 14:30:00 
発表時間 30分 
申込先研究会 ED 
資料番号 ED2009-62, SDM2009-57 
巻番号(vol) vol.109 
号番号(no) no.97(ED), no.98(SDM) 
ページ範囲 pp.53-58 
ページ数
発行日 2009-06-17 (ED, SDM) 


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