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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2009-07-21 13:00 MOD法によるBi-2212/MgO薄膜の膜厚変化による特性評価 ○濱中公志・立木 隆・内田貴司（防衛大）  SCE2009-9 |
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| 抄録 | （和） | 我々は、テラヘルツ帯で動作する発振器・検出器などへの応用を目指し、真空装置を必要とせず、低コストで大面積での成膜が可能な有機金属分解（MOD）法によるMgO基板上へのBi2Sr2CaCu2O8+x（Bi-2212）薄膜の作製を行っている。これまで、このMOD法を用いて、MgO基板上に厚さ約120 nmのBi-2212薄膜を作製し、その特性評価を行ってきた。しかし、MOD法により作製した同薄膜をデバイスに柔軟に応用していくためには膜厚を変化させたときの特性を把握することが必要である。本研究では、MOD法により、膜厚40 ～ 240 nmのBi-2212/MgO薄膜を作製し、最適な作製条件の把握ならびに作製した薄膜の特性を評価した。その結果、840 ℃で焼成した膜厚 120 nmの薄膜はMgO基板に対するBi-2212の面内配向角は、η＝45°が支配的であったのに対し、845 ℃で焼成した膜厚 240 nmの薄膜はη ~ ±12°が支配的であった。また、膜厚が増加すると、表面モフォロジーの向上、on-set Tcでの抵抗率の減少、臨界電流密度(Jc)の向上が得られ、膜厚約120～240 nmにおけるJc は 4～5×105A/cm2 (@4.2K)であった。 |
| （英） | We have fabricated a Bi2Sr2CaCu2O8+x(Bi-2212) thin film on a MgO substrate by the metal-organic decomposition (MOD) method to apply the film to high frequency devices such as a terahertz oscillator and detector. However, in order to apply the film to devices flexibly, it is important to evaluate the characteristics of the film with changing the thickness. In this study, we optimized a firing condition for Bi-2212/MgO thin films with the thickness from 40 to 240 nm by MOD and investigated the characteristics of the films. As a result, for the film with about 120 nm fired at 840℃, a rotation angle = 45 deg was dominant. On the other hand, for the film with about 240 nm fired at 845℃, ~±12 deg. were dominant. When increasing the film thickness, a surface morphology improved, the resistivity at on-set Tc decreased, and the critical current density (Jc) increased. Jc was 4~5×105A/cm2 at 4.2K for the films with 120 and 240 nm. | |
| キーワード | （和） | 有機金属分解（MOD）法 / Bi-2212薄膜 / MgO基板 / / / / / |
| （英） | Metal-organic decomposition（MOD）method / Bi-2212 thin films / MgO substrate / / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 109, no. 141, SCE2009-9, pp. 1-6, 2009年7月. | |
| 資料番号 | SCE2009-9 | |
| 発行日 | 2009-07-14 (SCE) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | SCE2009-9 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | SCE |
| 開催期間 | 2009-07-21 - 2009-07-21 |
| 開催地（和） | 機械振興会館 |
| 開催地（英） | Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. |
| テーマ（和） | 接合および材料、一般 |
| テーマ（英） | Junctions and materials, etc. |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | SCE |
| 会議コード | 2009-07-SCE |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | MOD法によるBi-2212/MgO薄膜の膜厚変化による特性評価 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Investigation of characteristics with changing film thickness for Bi-2212/MgO fabricated by the MOD method |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 有機金属分解（MOD）法 / Metal-organic decomposition（MOD）method |
| キーワード(2)（和/英） | Bi-2212薄膜 / Bi-2212 thin films |
| キーワード(3)（和/英） | MgO基板 / MgO substrate |
| キーワード(4)（和/英） | / |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 濱中 公志 / Koji Hamanaka / ハマナカ コウジ |
| 第1著者 所属（和/英） | 防衛大学校 (略称： 防衛大) National Defense Academy (略称： NDA) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 立木 隆 / Takashi Tachiki / タチキ タカシ |
| 第2著者 所属（和/英） | 防衛大学校 (略称： 防衛大) National Defense Academy (略称： NDA) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 内田 貴司 / Takashi Uchida / ウチダ タカシ |
| 第3著者 所属（和/英） | 防衛大学校 (略称： 防衛大) National Defense Academy (略称： NDA) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2009-07-21 13:00:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | SCE |
| 資料番号 | SCE2009-9 |
| 巻番号（vol） | vol.109 |
| 号番号（no） | no.141 |
| ページ範囲 | pp.1-6 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2009-07-14 (SCE) |
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