| 電子情報通信学会 研究会発表申込システム 講演論文 詳細 |
技報閲覧サービス [ログイン] 技報アーカイブ |
| トップに戻る | 前のページに戻る | [Japanese] / [English] |
| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2009-09-30 09:50 直線状エロージョンマグネトロンスパッタリングによる(11-20)配向ZnO圧電膜の大面積成膜 ○川本貴之（同志社大/オムロン）・柳谷隆彦（名工大）・松川真美・渡辺好章（同志社大）・森 嘉一・佐々木 昌・大場正利（オムロン）  US2009-49 |
|
| 抄録 | （和） | これまで，円形エロージョンを有したRFマグネトロンスパッ装置を用いた（11-20）ZnO圧電膜の作製の報告がなされている．しかしこの場合は基板上の微小な領域でしか十分に配向せず，またc軸がウェハ面内で放射状に配向するといった課題があった．今回，我々は直線エロージョンをもったスパッタ陰極を用いることで，基板の広範囲で良好な結晶性を有し，かつ圧電軸が同一方向に配向した（11-20）配向ZnO圧電膜の作製に成功したため，その結果を報告する． |
| （英） | In previous studies, fabrication of (11-20) textured ZnO piezoelectric films have been reported by using RF magnetron sputtering with circular cathode. However, in these studies, there have been two problems related to the practical application. The problems are that (i) highly oriented films can be obtained only in a small area, and (ii) crystallites c-axis in the films was oriented radially in the substrate plane. In this study, we make an attempt to realize the in-plane unidirectional orientation in a large area by using sputtering cathode with linear erosion. | |
| キーワード | （和） | (11-20)配向ZnO膜 / RFマグネトロンスパッタ法 / 円形エロージョン / 面内放射状配向 / 直線エロージョン / 大面積成膜 / / |
| （英） | (11-20) textured ZnO film / RF magnetron sputtering method / circular erosion / radial orientation / linear erosion / unidirectional orientation / large-area fabrication / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 109, no. 213, US2009-49, pp. 65-70, 2009年9月. | |
| 資料番号 | US2009-49 | |
| 発行日 | 2009-09-22 (US) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | US2009-49 |
|
| 研究会情報 | |
| 研究会 | US |
| 開催期間 | 2009-09-29 - 2009-09-30 |
| 開催地（和） | 祝いの宿 登別グランドホテル 会議室 |
| 開催地（英） | Noboribetsu Grand Hotel |
| テーマ（和） | 一般 |
| テーマ（英） | General |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | US |
| 会議コード | 2009-09-US |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 直線状エロージョンマグネトロンスパッタリングによる(11-20)配向ZnO圧電膜の大面積成膜 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Large-area fabrication of (11-20) textured ZnO piezoelectric films using magnetron sputtering with linear erosion. |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | (11-20)配向ZnO膜 / (11-20) textured ZnO film |
| キーワード(2)（和/英） | RFマグネトロンスパッタ法 / RF magnetron sputtering method |
| キーワード(3)（和/英） | 円形エロージョン / circular erosion |
| キーワード(4)（和/英） | 面内放射状配向 / radial orientation |
| キーワード(5)（和/英） | 直線エロージョン / linear erosion |
| キーワード(6)（和/英） | 大面積成膜 / unidirectional orientation |
| キーワード(7)（和/英） | / large-area fabrication |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 川本 貴之 / Takayuki Kawamoto / カワモト タカユキ |
| 第1著者 所属（和/英） | 同志社大学/オムロン (略称： 同志社大/オムロン) Doshisha University/Omron Corporation (略称： Doshisha Univ./Omron Corp.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 柳谷 隆彦 / Takahiko Yanagitani / ヤナギタニ タカヒコ |
| 第2著者 所属（和/英） | 名古屋工業大学 (略称： 名工大) Nagoya Institute of Technology (略称： Nagoya Inst. Tech.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 松川 真美 / Mami Matsukawa / マツカワ マミ |
| 第3著者 所属（和/英） | 同志社大学 (略称： 同志社大) Doshisha University (略称： Doshisha Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 渡辺 好章 / Yoshiaki Watanabe / ワタナベ ヨシアキ |
| 第4著者 所属（和/英） | 同志社大学 (略称： 同志社大) Doshisha University (略称： Doshisha Univ.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 森 嘉一 / Yoshikazu Mori / モリ ヨシカズ |
| 第5著者 所属（和/英） | オムロン (略称： オムロン) Omron Corporation (略称： Omron Corp.) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 佐々木 昌 / Syo Sasaki / ササキ ショウ |
| 第6著者 所属（和/英） | オムロン (略称： オムロン) Omron Corporation (略称： Omron Corp.) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） | 大場 正利 / Masatoshi Oba / オオバ マサトシ |
| 第7著者 所属（和/英） | オムロン (略称： オムロン) Omron Corporation (略称： Omron Corp.) |
| 第8著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第8著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第9著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第9著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第10著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第10著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第11著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第11著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第12著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第12著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第13著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第13著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第14著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第14著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第15著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第15著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第16著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第16著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第17著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第17著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第18著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第18著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2009-09-30 09:50:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | US |
| 資料番号 | US2009-49 |
| 巻番号（vol） | vol.109 |
| 号番号（no） | no.213 |
| ページ範囲 | pp.65-70 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2009-09-22 (US) |
[研究会発表申込システムのトップページに戻る]