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講演抄録/キーワード
講演名 2009-10-30 15:15
自動化超高速化量子分子動力学法によるシリコン表面酸窒化シミュレーション
坪井秀行鈴木 愛畠山 望遠藤 明高羽洋充久保百司宮本 明東北大SDM2009-133
抄録 (和) シリコン表面における酸窒化膜の形成メカニズムの解明とくにその初期過程におけるNO分子やO2分子とシリコン表面の相互作用の量子論に立脚したメカニズム解明は,半導体デバイスにおけるhigh-k膜形成プロセスにおける基礎的な知見として極めて有用である.本研究では当研究室で開発した自動化超高速化量子分子動力学法プログラムを駆使して,量子化学計算に立脚したシリコン清浄表面の酸化反応プロセスおよび酸窒化反応プロセスのダイナミクスを解析したのでその一端を報告する. 
(英) Using our newly developed automated system of ultra-accelerated quantum chemical molecular dynamics method, we have investigated the initial process for oxydation and oxy-nitridation reaction of silicon clean surface. In this report, we have analyzed the behavior of O2 molecules and NO molecule during the surface chemical reaction and the change of atomic charges and the binding energies.
キーワード (和) シリコン表面 / 酸窒化膜 / NO分子 / O2分子 / シミュレーション / 自動化超高速化量子分子動力学法 / high-k膜 /  
(英) Silicon surface / Oxy-nitride film / NO molecule / O2 molecule / Simulation / Automated system / Ultra accelerated quantum chemical molecular dynamics method /  
文献情報 信学技報, vol. 109, no. 257, SDM2009-133, pp. 75-76, 2009年10月.
資料番号 SDM2009-133 
発行日 2009-10-22 (SDM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
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PDFダウンロード SDM2009-133

研究会情報
研究会 SDM  
開催期間 2009-10-29 - 2009-10-30 
開催地(和) 東北大学 
開催地(英) Tohoku University 
テーマ(和) プロセス科学と新プロセス技術 
テーマ(英) Semiconductor process science and new technology 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 SDM 
会議コード 2009-10-SDM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 自動化超高速化量子分子動力学法によるシリコン表面酸窒化シミュレーション 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Oxy-nitridation Simulation of Silicon Surface Using Antomated System of Ultra-Accelerated Quantum Chemical Molecular Dynamics Method 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) シリコン表面 / Silicon surface  
キーワード(2)(和/英) 酸窒化膜 / Oxy-nitride film  
キーワード(3)(和/英) NO分子 / NO molecule  
キーワード(4)(和/英) O2分子 / O2 molecule  
キーワード(5)(和/英) シミュレーション / Simulation  
キーワード(6)(和/英) 自動化超高速化量子分子動力学法 / Automated system  
キーワード(7)(和/英) high-k膜 / Ultra accelerated quantum chemical molecular dynamics method  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 坪井 秀行 / Hideyuki Tsuboi / ツボイ ヒデユキ
第1著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
tohoku university (略称: Tohoku Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 鈴木 愛 / Ai Suzuki / スズキ アイ
第2著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
tohoku university (略称: Tohoku Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 畠山 望 / Nozomu Hatakeyama / ハタケヤマ ノゾム
第3著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
tohoku university (略称: Tohoku Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 遠藤 明 / Akira Endou / エンドウ アキラ
第4著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
tohoku university (略称: Tohoku Univ.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 高羽 洋充 / Hiromitsu Takaba / タカバ ヒロミツ
第5著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
tohoku university (略称: Tohoku Univ.)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 久保 百司 / Momoji Kubo / クボ モモジ
第6著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
tohoku university (略称: Tohoku Univ.)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 宮本 明 / Akira Miyamoto / ミヤモト アキラ
第7著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
tohoku university (略称: Tohoku Univ.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2009-10-30 15:15:00 
発表時間 30分 
申込先研究会 SDM 
資料番号 SDM2009-133 
巻番号(vol) vol.109 
号番号(no) no.257 
ページ範囲 pp.75-76 
ページ数
発行日 2009-10-22 (SDM) 


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