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講演抄録/キーワード
講演名 2009-12-03 10:00
情報システム装置の中性子照射試験とフィールドエラーとの相関
新保健一鳥羽忠信伊部英史西井浩士日立CPM2009-143 ICD2009-72
抄録 (和) 中性子照射試験により情報システム装置のソフトエラー耐性評価を行った.メモリ構成の異なる2台の装置のソフトエラー比について,照射試験とフィールド試験の相関を確認した結果,部分照射試験でもフィールド試験と同等の結果を短時間で評価できることがわかった.また、装置の特定部位にのみ中性子を照射する部分照射試験によって,中性子に対して脆弱な部位を特定できることを確認した. 
(英) We evaluated the soft error tolerance of the information system by the neutron irradiation test. We estimated the correlation of the field examination as the irradiation test in two different equipment of the memory architecture. As a result, the partial irradiation test had the evaluation that was equal to a field examination. And we specified the vulnerable part for a neutron by partial irradiation.
キーワード (和) 中性子 / ソフトエラー / SER / 照射試験 / システム / / /  
(英) Neutron / Soft-error / SER / Irradiation Test / System / / /  
文献情報 信学技報, vol. 109, no. 317, CPM2009-143, pp. 51-55, 2009年12月.
資料番号 CPM2009-143 
発行日 2009-11-25 (CPM, ICD) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード CPM2009-143 ICD2009-72

研究会情報
研究会 VLD DC IPSJ-SLDM CPSY RECONF ICD CPM  
開催期間 2009-12-02 - 2009-12-04 
開催地(和) 高知市文化プラザ 
開催地(英) Kochi City Culture-Plaza 
テーマ(和) デザインガイア2009 ―VLSI設計の新しい大地― 
テーマ(英) Design Gaia 2009 ―New Field of VLSI Design― 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 CPM 
会議コード 2009-12-VLD-DC-SLDM-CPSY-RECONF-ICD-CPM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 情報システム装置の中性子照射試験とフィールドエラーとの相関 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Correlation of Mitigation of Soft-error Rate of Routers between Neutron Irradiation Test and Field Soft-error Data 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 中性子 / Neutron  
キーワード(2)(和/英) ソフトエラー / Soft-error  
キーワード(3)(和/英) SER / SER  
キーワード(4)(和/英) 照射試験 / Irradiation Test  
キーワード(5)(和/英) システム / System  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 新保 健一 / Kenichi Shimbo / シンボ ケンイチ
第1著者 所属(和/英) 株式会社日立製作所 生産技術研究所 (略称: 日立)
Hitachi, Ltd. (略称: Hitachi)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 鳥羽 忠信 / Tadanobu Toba / トバ タダノブ
第2著者 所属(和/英) 株式会社日立製作所 生産技術研究所 (略称: 日立)
Hitachi, Ltd. (略称: Hitachi)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 伊部 英史 / Hidehumi Ibe / イベ ヒデフミ
第3著者 所属(和/英) 株式会社日立製作所 生産技術研究所 (略称: 日立)
Hitachi, Ltd. (略称: Hitachi)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 西井 浩士 / Koji Nishii / ニシイ コウジ
第4著者 所属(和/英) 株式会社日立製作所 生産技術研究所 (略称: 日立)
Hitachi, Ltd. (略称: Hitachi)
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講演者 第1著者 
発表日時 2009-12-03 10:00:00 
発表時間 20分 
申込先研究会 CPM 
資料番号 CPM2009-143, ICD2009-72 
巻番号(vol) vol.109 
号番号(no) no.317(CPM), no.318(ICD) 
ページ範囲 pp.51-55 
ページ数
発行日 2009-11-25 (CPM, ICD) 


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