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講演抄録/キーワード
講演名 2009-12-18 14:30
フッ素添加ECRスパッタカーボン薄膜の摩擦特性
鈴木 学鎌田智之東峰裕輔昼間 峻梅村 茂千葉工大)・廣野 滋MESアフティ)・東原秀和沖野不二雄服部義之信州大)・丹羽 修産総研)・刀 東風西安交通大EMD2009-109 エレソ技報アーカイブへのリンク:EMD2009-109
抄録 (和) 筆者らは,ECRスパッタ法によって,導電性と高い耐摩耗性を備えたフッ素添加カーボン薄膜を作製した.このフッ素添加ECRスパッタカーボン薄膜について,AFMによる表面粗さ測定,ボールオンディスク型摩擦試験機による摩擦試験を行った.その結果,表面粗さは無添加ECRスパッタカーボン薄膜と比べて変化はなかった.また,摩擦試験の結果,膜中フッ素濃度の増加に伴い摩擦係数は増加した. 
(英) Fluorine-containing carbon thin films with low resistivity and high wear durability were synthesized by electron-cyclotron-resonance (ECR) plasma sputtering with mixed sputtering gas of argon and tetrafluoromethane (CF4).. We evaluated the surface roughness and the friction characteristics of the ECR-sputtered fluorocarbon thin films by atomic force microscopy and ball-on-disk-type friction tester, respectively. The surface roughness of the ECR-sputtered fluorocarbon films is almost same as that of the nondoped ECR-sputtered carbon films. The friction coefficient of the ECR-sputtered fluorocarbon films increased with the increase of the fluorine concentration of the films.
キーワード (和) フッ素 / ECRスパッタ / カーボン / 薄膜 / 摩擦 / / /  
(英) Fluorine / ECR sputter / Carbon / Thin film / Friction / / /  
文献情報 信学技報, vol. 109, no. 352, EMD2009-109, pp. 17-20, 2009年12月.
資料番号 EMD2009-109 
発行日 2009-12-11 (EMD) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード EMD2009-109 エレソ技報アーカイブへのリンク:EMD2009-109

研究会情報
研究会 EMD  
開催期間 2009-12-18 - 2009-12-18 
開催地(和) 千葉工業大学 津田沼キャンパス 
開催地(英)  
テーマ(和) 一般 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 EMD 
会議コード 2009-12-EMD 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) フッ素添加ECRスパッタカーボン薄膜の摩擦特性 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Tribological Characteristics of ECR-Sputtered Fluorocarbon Thin Films 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) フッ素 / Fluorine  
キーワード(2)(和/英) ECRスパッタ / ECR sputter  
キーワード(3)(和/英) カーボン / Carbon  
キーワード(4)(和/英) 薄膜 / Thin film  
キーワード(5)(和/英) 摩擦 / Friction  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 鈴木 学 / Manabu Suzuki / スズキ マナブ
第1著者 所属(和/英) 千葉工業大学 (略称: 千葉工大)
Chiba Institute of Technology (略称: Chiba Inst. of Tech.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 鎌田 智之 / Tomoyuki Kamata / カマタ トモユキ
第2著者 所属(和/英) 千葉工業大学 (略称: 千葉工大)
Chiba Institute of Technology (略称: Chiba Inst. of Tech.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 東峰 裕輔 / Yusuke Tomine / トウミネ ユウスケ
第3著者 所属(和/英) 千葉工業大学 (略称: 千葉工大)
Chiba Institute of Technology (略称: Chiba Inst. of Tech.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 昼間 峻 / Shun Hiruma / ヒルマ シュン
第4著者 所属(和/英) 千葉工業大学 (略称: 千葉工大)
Chiba Institute of Technology (略称: Chiba Inst. of Tech.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 梅村 茂 / Shigeru Umemura / ウメムラ シゲル
第5著者 所属(和/英) 千葉工業大学 (略称: 千葉工大)
Chiba Institute of Technology (略称: Chiba Inst. of Tech.)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 廣野 滋 / Shigeru Hirono / ヒロノ シゲル
第6著者 所属(和/英) MESアフティ株式会社 (略称: MESアフティ)
MES AFTY Corporation (略称: MES AFTY)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 東原 秀和 / Hidekazu Tohara / トウハラ ヒデカズ
第7著者 所属(和/英) 信州大学 (略称: 信州大)
Shinshu University (略称: Shinshu Univ.)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) 沖野 不二雄 / Hujio Okino / オキノ フジオ
第8著者 所属(和/英) 信州大学 (略称: 信州大)
Shinshu University (略称: Shinshu Univ.)
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) 服部 義之 / Yoshiyuki Hattori / ハットリ ヨシユキ
第9著者 所属(和/英) 信州大学 (略称: 信州大)
Shinshu University (略称: Shinshu Univ.)
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) 丹羽 修 / Osamu Niwa / ニワ オサム
第10著者 所属(和/英) 産業技術総合研究所 (略称: 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称: AIST)
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) 刀 東風 / Diao Dongfeng /
第11著者 所属(和/英) 西安交通大学 (略称: 西安交通大)
Xi'an Jiaotong University (略称: Xi'an Jiaotong Univ.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2009-12-18 14:30:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 EMD 
資料番号 EMD2009-109 
巻番号(vol) vol.109 
号番号(no) no.352 
ページ範囲 pp.17-20 
ページ数
発行日 2009-12-11 (EMD) 


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