| 電子情報通信学会 研究会発表申込システム 講演論文 詳細 |
技報閲覧サービス [ログイン] 技報アーカイブ |
| トップに戻る | 前のページに戻る | [Japanese] / [English] |
| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2010-01-29 14:25 アルミニウム表面プラズモンカラーフィルタ ○池田直樹・津谷大樹・杉本喜正・小出康夫（物質・材料研究機構）・三浦篤志・井上大介・野村壮士・藤川久喜・佐藤和夫（豊田中研）  PN2009-59 OPE2009-197 LQE2009-179 |
|
| 抄録 | （和） | 本研究では、表面プラズモン共鳴を利用したカラーフィルタの開発を目的とし、高いプラズマ周波数を有し比較的微細加工が容易なアルミニウム薄膜に電子ビーム描画および反応性イオンエッチングを用い周期300～400nm程度の高精度なホールアレイを形成した。ホールアレイは、周期を制御することで可視光全領域をカバーする透過率30％、バンド帯域50nmのフィルタ特性を示した。 |
| （英） | In order to realize surface plasmon color filter we fabricated precise hole array which lattice constant of 300~400nm using electron beam lithography and reactive ion beam etching in Aluminum thin film with high plasma frequency. Transmission thorough hole array which caused by resonance of surface plasmon is controlled by lattice constant. Hole array show filter characteristics of transmission of 30% and band width of 50nm in full visible light region. | |
| キーワード | （和） | 表面プラズモン / プラズマ周波数 / 電子ビーム描画 / 反応性イオンエッチング / / / / |
| （英） | Surface plasmon / Plasma frequency / Electron beam lithography / Reactive ion etching / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 109, no. 402, OPE2009-197, pp. 129-132, 2010年1月. | |
| 資料番号 | OPE2009-197 | |
| 発行日 | 2010-01-21 (PN, OPE, LQE) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | PN2009-59 OPE2009-197 LQE2009-179 |
|
| 研究会情報 | |
| 研究会 | OPE EMT LQE PN IEE-EMT |
| 開催期間 | 2010-01-28 - 2010-01-29 |
| 開催地（和） | 京大桂キャンパス、Bクラスター事務管理棟 、大会議室_A会場、桂ラウンジ_B会場 |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | フォトニックNW・デバイス，フォトニック結晶・ファイバとその応用，光集積回路，光導波路素子，光スイッチング，導波路解析，及び一般 |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | OPE |
| 会議コード | 2010-01-OPE-EMT-LQE-PN-EMT |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | アルミニウム表面プラズモンカラーフィルタ |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Aluminum surface plasmon color filter |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 表面プラズモン / Surface plasmon |
| キーワード(2)（和/英） | プラズマ周波数 / Plasma frequency |
| キーワード(3)（和/英） | 電子ビーム描画 / Electron beam lithography |
| キーワード(4)（和/英） | 反応性イオンエッチング / Reactive ion etching |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 池田 直樹 / Naoki Ikeda / イケダ ナオキ |
| 第1著者 所属（和/英） | 物質・材料研究機構 (略称： 物質・材料研究機構) National Institute for Materials Science (略称： National Inst. for Materials Science) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 津谷 大樹 / Daiju Tsuya / ツヤダ イジュ |
| 第2著者 所属（和/英） | 物質・材料研究機構 (略称： 物質・材料研究機構) National Institute for Materials Science (略称： National Inst. for Materials Science) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 杉本 喜正 / Yoshimasa Sugimoto / スギモト ヨシマサ |
| 第3著者 所属（和/英） | 物質・材料研究機構 (略称： 物質・材料研究機構) National Institute for Materials Science (略称： National Inst. for Materials Science) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 小出 康夫 / Yasuo Koide / コイデ ヤスオ |
| 第4著者 所属（和/英） | 物質・材料研究機構 (略称： 物質・材料研究機構) National Institute for Materials Science (略称： National Inst. for Materials Science) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 三浦 篤志 / Atsushi Miura / ミウラ アツシ |
| 第5著者 所属（和/英） | 豊田中央研究所 (略称： 豊田中研) Toyota Central R&D Labs.,Inc. (略称： Toyota CRDL) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 井上 大介 / Daisuke Inoue / イノウエ ダイスケ |
| 第6著者 所属（和/英） | 豊田中央研究所 (略称： 豊田中研) Toyota Central R&D Labs.,Inc. (略称： Toyota CRDL) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） | 野村 壮士 / Tsuyoshi Nomura / ノムラ ツヨシ |
| 第7著者 所属（和/英） | 豊田中央研究所 (略称： 豊田中研) Toyota Central R&D Labs.,Inc. (略称： Toyota CRDL) |
| 第8著者 氏名（和/英/ヨミ） | 藤川 久喜 / Hisayoshi Fujikawa / フジカワ ヒサヨシ |
| 第8著者 所属（和/英） | 豊田中央研究所 (略称： 豊田中研) Toyota Central R&D Labs.,Inc. (略称： Toyota CRDL) |
| 第9著者 氏名（和/英/ヨミ） | 佐藤 和夫 / Kazuo Sato / サトウ カズオ |
| 第9著者 所属（和/英） | 豊田中央研究所 (略称： 豊田中研) Toyota Central R&D Labs.,Inc. (略称： Toyota CRDL) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2010-01-29 14:25:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | OPE |
| 資料番号 | PN2009-59, OPE2009-197, LQE2009-179 |
| 巻番号（vol） | vol.109 |
| 号番号（no） | no.401(PN), no.402(OPE), no.403(LQE) |
| ページ範囲 | pp.129-132 |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2010-01-21 (PN, OPE, LQE) |
[研究会発表申込システムのトップページに戻る]